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1. (WO2009086257) SUSCEPTEUR À BOSSES DE SUPPORT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/086257    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/087927
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 22.12.2008
CIB :
C23C 16/458 (2006.01), C30B 25/12 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01)
Déposants : MEMC ELECTRONIC MATERIALS, INC. [US/US]; 501 Pearl Drive St. Peters, MO 63376 (US) (Tous Sauf US).
PITNEY, John, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
HAMANO, Manabu [US/US]; (US) (US Seulement).
HELLWIG, Lance, G. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PITNEY, John, A.; (US).
HAMANO, Manabu; (US).
HELLWIG, Lance, G.; (US)
Mandataire : MUNSELL, Michael, G.; Armstrong Teasdale LLP One Metropolitan Square 26th Floor St. Louis, MO 63102 (US)
Données relatives à la priorité :
11/965,459 27.12.2007 US
Titre (EN) SUSCEPTOR WITH SUPPORT BOSSES
(FR) SUSCEPTEUR À BOSSES DE SUPPORT
Abrégé : front page image
(EN)A susceptor for supporting a semiconductor wafer during a chemical vapor deposition process includes a body having opposing upper and lower surfaces. Support bosses extend downward from the lower face of the body. Each support boss has a boss opening sized and shaped for receiving a support post of a chemical vapor deposition device to mount the susceptor on the support post.
(FR)Suscepteur destiné à supporter une tranche semi-conductrice pendant un processus de dépôt chimique en phase vapeur, comprenant un corps possédant des surfaces supérieure et inférieure opposées. Des bosses de support s'étendent vers le bas depuis la face inférieure du corps. Chaque bosse de support possède une ouverture dimensionnée et formée de manière à recevoir un poteau de support d'un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur pour monter le suscepteur sur le poteau de support.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)