WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009086023) PROCÉDÉS DE NETTOYAGE DE KITS ET DE CHAMBRES DE TRAITEMENT, ET PROCÉDÉS DE RÉCUPÉRATION DE RUTHÉNIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/086023    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/087551
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 18.12.2008
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
TAN, Samantha, S., H. [CA/US]; (US) (US Seulement).
WANG, Jianqi [CA/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TAN, Samantha, S., H.; (US).
WANG, Jianqi; (US)
Mandataire : DUGAN, Brian, M.; Dugan & Dugan, PC, 245 Saw Mill River Road, Suite 309, Hawthorne, NY 10532 (US)
Données relatives à la priorité :
61/015,068 19.12.2007 US
Titre (EN) METHODS FOR CLEANING PROCESS KITS AND CHAMBERS, AND FOR RUTHENIUM RECOVERY
(FR) PROCÉDÉS DE NETTOYAGE DE KITS ET DE CHAMBRES DE TRAITEMENT, ET PROCÉDÉS DE RÉCUPÉRATION DE RUTHÉNIUM
Abrégé : front page image
(EN)A method is provided for recovering a metal from electronic device deposition equipment including: providing deposition equipment wherein the deposition equipment is at least partially coated with a deposited metal; blasting the deposition equipment with a grit to remove at least some of the deposited metal to form a blasted grit and a removed metal; and separating at least some of the removed metal from the blasted grit to form a recovered metal. Numerous other aspects are provided.
(FR)L'invention concerne un procédé de récupération d'un métal d'un équipement de dépôt de dispositif électronique qui comprend : l'utilisation d'un équipement de dépôt qui est au moins partiellement recouvert d'un métal déposé; le décapage de l'équipement de dépôt avec un abrasif afin d'éliminer au moins une partie du métal déposé de façon à former un abrasif grenaillé et un métal retiré; et la séparation d'au moins une partie du métal retiré de l'abrasif grenaillé afin de former un métal récupéré. Plusieurs autres aspects sont prévus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)