WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009086013) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE RÉGULATION DE LA TEMPÉRATURE D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/086013    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/087533
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 18.12.2008
CIB :
H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/265 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
BRILLHART, Paul L. [US/US]; (US) (US Seulement).
FOVELL, Richard Charles [US/US]; (US) (US Seulement).
TAVASSOLI, Hamid [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHOU, Xiaoping [US/US]; (US) (US Seulement).
BUCHBERGER, JR., Douglas A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BRILLHART, Paul L.; (US).
FOVELL, Richard Charles; (US).
TAVASSOLI, Hamid; (US).
ZHOU, Xiaoping; (US).
BUCHBERGER, JR., Douglas A.; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P., 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500, Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
61/016,000 21.12.2007 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF A SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE RÉGULATION DE LA TEMPÉRATURE D'UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A pedestal assembly and method for controlling temperature of a substrate during processing is provided. In one embodiment, method for controlling a substrate temperature during processing includes placing a substrate on a substrate pedestal assembly in a vacuum processing chamber, controlling a temperature of the substrate pedestal assembly by flowing a heat transfer fluid through a radial flowpath within the substrate pedestal assembly, the radial flowpath including both radially inward and radially outward portions, and plasma processing the substrate on the temperature controlled substrate pedestal assembly. In another embodiment, plasma processing may be at least one of a plasma treatment, a chemical vapor deposition process, a physical vapor deposition process, an ion implantation process or an etch process, among others.
(FR)L'invention concerne un ensemble socle et un procédé de régulation de la température d'un substrat pendant son traitement. Dans un mode de réalisation, un procédé de régulation de la température d'un substrat pendant son traitement comprend le placement d'un substrat sur un ensemble socle à substrat dans une chambre de traitement sous vide, le régulation de la température de l'ensemble socle à substrat en faisant s'écouler un fluide de transfert thermique dans un parcours d'écoulement radial situé à l'intérieur de l'ensemble socle à substrat, le parcours d'écoulement radial présentant une partie radialement intérieure et une partie radialement extérieure, et le traitement au plasma du substrat placé sur l'ensemble socle à substrat à température régulée. Dans un autre mode de réalisation, le traitement au plasma peut être au moins un traitement parmi un traitement au plasma, une opération de dépôt de vapeur chimique, une opération de dépôt de vapeur physique, une opération d'implantation d'ions ou une opération de gravure, entre autres.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)