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1. (WO2009085023) IMPLANT DENTAIRE À ASSISE OSSEUSE RENFORCÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/085023    N° de la demande internationale :    PCT/TR2008/000145
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 24.12.2008
CIB :
A61C 8/00 (2006.01), A61B 17/66 (2006.01)
Déposants : SERHAN, AKMAN [TR/TR]; (TR).
MUSTAFA, TUNALI [TR/TR]; (TR)
Inventeurs : SERHAN, AKMAN; (TR).
MUSTAFA, TUNALI; (TR)
Mandataire : MEHMET MESUT, BARKALE; Babalik Mh. Demirci Is Merkezi B Blok Kat:6 No:607, Selcuklu, 42100 Konya (TR)
Données relatives à la priorité :
2007/09040 27.12.2007 TR
Titre (EN) DENTAL IMPLANT THAT INCREASES BONE SUPPORT
(FR) IMPLANT DENTAIRE À ASSISE OSSEUSE RENFORCÉE
Abrégé : front page image
(EN)This describes an implant design that increases the amount of bone around the implant by increasing its length in order to place a longer implant without the need for a sinus elevation surgery in the posterior maxillary region where bone stock is not sufficient by employing the principles of displacement procedures in implantology which rely on regeneration of patient's own bone and have been used for years in the dentistry for orthodontic procedures. The implant system we have designed has a pressure adaptor (4) that protrudes and advances through the apical part of the implant. Pressure adaptor (4) is advanced within the bone until desired length of implant and bone is achieved. This procedure forms significant amount of bone around the implant within the floor of maxillary sinus. Floor of maxillary sinus is elevated. New bone is formed without the need for an additional surgery. This implant system can also be used for distraction osteogenesis in sinus floor or other anatomic spaces by a unique application different from distractor implants.
(FR)La présente invention concerne un modèle d'implant qui augmente la quantité d'os autour de l'implant. Cela résulte de l'augmentation de longueur visant à mettre en place un implant plus long sans qu'il y ait besoin de chirurgie d'élévation de sinus dans la région maxillaire postérieure où la quantité d'os est insuffisante. À cet effet, on a recours aux principes des procédures de déplacement utilisées en implantologie qui reposent sur la régénération de l'os propre du patient, lesquels principes sont connus depuis des années en dentisterie pour les procédures orthodontiques. Le système d'implant que nous avons conçu comporte un adaptateur à pression (4) qui dépasse et progresse au travers de la partie apicale de l'implant. On fait progresser l'adaptateur à pression (4) à l'intérieur de l'os jusqu'à obtenir la longueur voulue d'implant et d'os. Cette procédure permet de former une quantité notable d'os autour de l'implant à l'intérieur du plancher du sinus maxillaire. Le plancher du sinus maxillaire est élevé. De l'os neuf se forme sans qu'il y ait besoin de chirurgie supplémentaire. Ce système d'implant convient également pour l'ostéogénèse de distraction dans le plancher du sinus ou d'autres volumes anatomiques, grâce à une application unique différente des implants distracteurs. Dans ce système, on réalise une fracture minimale dans l'os cortical au-dessus de la partie apicale de l'implant. Il se forme donc un cal dans cette région, contrairement à ce que donnent d'autres distracteurs lorsque l'ostéotomie est située dans la partie moyenne de l'implant. Ce modèle d'implant favorise donc aussi la formation d'os neuf par ostéogénèse distractive.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)