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1. (WO2009084850) PROCÉDÉ DE FAÇONNAGE D'OXYDE CONDUCTEUR TRANSPARENT D'UN VERRE CONDUCTEUR ET VERRE CONDUCTEUR PRÉPARÉ À PARTIR CE PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/084850    N° de la demande internationale :    PCT/KR2008/007632
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 24.12.2008
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. [KR/KR]; 472-2, Gajwa-Dong, Seo-Gu, Incheon 404-205 (KR) (Tous Sauf US).
BAE, Ho-Gi [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Jong-Bok [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
MOON, Hyoung-Don [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
PARK, Tae-Jin [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : BAE, Ho-Gi; (KR).
KIM, Jong-Bok; (KR).
MOON, Hyoung-Don; (KR).
PARK, Tae-Jin; (KR)
Mandataire : WON, Young-Ho; #407 Seongji Heights 3-cha Bldg., 642-6, Yeoksam-Dong, Gangnam-Ku, Seoul 135-717 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2007-0138344 27.12.2007 KR
Titre (EN) METHOD OF PATTERNING TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE OF A CONDUCTIVE GLASS AND CONDUCTIVE GLASS PREPARED THEREBY
(FR) PROCÉDÉ DE FAÇONNAGE D'OXYDE CONDUCTEUR TRANSPARENT D'UN VERRE CONDUCTEUR ET VERRE CONDUCTEUR PRÉPARÉ À PARTIR CE PROCÉDÉ
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method of patterning a transparent conductive oxide film of conductive glass, and a conductive glass prepared thereby. Specifically, the present invention relates to a method of patterning a transparent conductive oxide film of a conductive glass comprising the steps of: forming a photoresist pattern on the part of the surface of a glass substrate where a transparent conductive oxide film is not to be formed; forming a transparent conductive film on the glass substrate; and removing the photoresist from the glass substrate, and a conductive glass prepared thereby. According to the present invention, a transparent conductive oxide (TCO) film can be patterned more easily and more inexpensively. Particularly, in the case of using TCO consisting of FTO, a conductive glass comprising FTO pattern formed thereon can be manufactured without using expensive laser equipment, and such conductive glass can be used as an electrode plate of a dye-sensitized solar cell.
(FR)L'invention concerne un procédé de façonnage d'un film d'oxyde conducteur transparent d'un verre conducteur, et un verre conducteur préparé à partir de ce procédé. Plus particulièrement, cette invention concerne un procédé de façonnage de film d'oxyde conducteur transparent d'un verre conducteur qui comprend les étapes consistant: à former un motif de photorésine sur la partie de la surface d'un substrat de verre de laquelle un film d'oxyde conducteur transparent ne doit pas être formé; à former un film conducteur transparent sur le substrat de verre; et à retirer la photorésine du substrat de verre, et un verre conducteur préparé à partir de ce procédé. Selon la présente invention, le film d'oxyde conducteur transparent (TCO) peut être façonné plus aisément et de manière plus économique. Plus particulièrement, dans le cas d'une utilisation du TCO constitué de FTO, un verre conducteur comprenant le motif FTO formé sur lui-même peut être fabriqué sans équipement laser coûteux, et ce verre conducteur peut être utilisé en tant qu'électrode plane d'une cellule solaire sensible aux colorantes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)