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1. (WO2009084623) APPAREIL DE TRAITEMENT, ÉLÉMENT D'ÉMISSION D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/084623    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/073704
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 26.12.2008
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (Tous Sauf US).
INOUE, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUI, Shin [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIMEJI, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : INOUE, Masato; (JP).
MATSUI, Shin; (JP).
HIMEJI, Toshiaki; (JP)
Mandataire : WATANABE, Keisuke; 6th Floor, Mitsui Sumitomo Ginko Okachimachi Bld., 11-4 Taito 4-chome, Taito-ku Tokyo 1100016 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-336693 27.12.2007 JP
Titre (EN) PROCESSING APPARATUS, ELECTRON EMITTING ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL DISPLAY
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT, ÉLÉMENT D'ÉMISSION D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 処理装置、並びに電子放出素子及び有機ELディスプレイの生産方法
Abrégé : front page image
(EN)Highly accurate batch pattern film formation is made possible even when using a mask, which has a possibility of deteriorating pattern alignment accuracy due to heavy weight as a result of meeting the requirement of size increase of a subject to be processed. Specifically, a processing apparatus (1), which performs processing by fixing a subject (300) to be processed and a mask (200), is provided with a base (400) for placing the subject (300) and the mask (200). Furthermore, the processing apparatus is provided with a second fixing means (101), which includes a permanent magnet for fixing a mask frame (200a) of the mask (200) on the base (400). The processing apparatus is also provided with a first fixing means (102), which includes a permanent magnet for fixing a mask-film-like flat surface (200b) of the mask (200) on the base (400). The second fixing means (101) and the first fixing means (102a, 102b) respectively have mechanisms wherein each permanent magnet can move the base (400) in the vertical direction.
(FR)Selon l'invention, une formation en lots très précise de film à motifs est rendue possible, même lors de l'utilisation d'un masque, qui présente une possibilité de détériorer une précision d'alignement de motif du fait d'un poids important en conséquence de la satisfaction de l'exigence d'augmentation de taille d'un objet à traiter. De façon plus précise, un appareil de traitement (1), qui effectue un traitement par fixation d'un objet (300) à traiter et d'un masque (200), est pourvu d'une base (400) pour une mise en place de l'objet (300) et du masque (200). De plus, l'appareil de traitement est pourvu d'un second moyen de fixation (101), qui comprend un aimant permanent destiné à fixer un cadre de masque (200a) du masque (200) sur la base (400). L'appareil de traitement est également pourvu d'un premier moyen de fixation (102), qui comprend un aimant permanent destiné à fixer une surface plate de type film-masque (200b) du masque (200) sur la base (400). Le second moyen de fixation (101) et le premier moyen de fixation (102a, 102b) comportent respectivement des mécanismes, chaque aimant permanent pouvant déplacer la base (400) dans la direction verticale.
(JA) 処理対象物の大判化の要求に対応して大重量となることでパターンの位置あわせ精度の低下の懸念があるマスクに対しても、高精度の一括パターン成膜を可能とする。  処理対象物300及びマスク200を固定して処理する処理装置1は、処理対象物300及びマスク200を載置する基台400を備える。さらに、この装置は、基台400上におけるマスク200のマスク枠200aを固着する永久磁石を含む第2の固定手段101と、基台400上におけるマスク200のマスク膜状平面200bを固着する永久磁石を含む第1の固定手段102とを備える。第2の固定手段101及び第1の固定手段102a,102bは、各永久磁石が基台400を垂直方向に移動できる機構となっている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)