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1. (WO2009084441) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FORMER UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/084441    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/073002
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 17.12.2008
CIB :
C23C 14/08 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01)
Déposants : ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (Tous Sauf US).
TAKAHASHI, Hirohisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIBASHI, Satoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKAHASHI, Hirohisa; (JP).
ISHIBASHI, Satoru; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-340913 28.12.2007 JP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FORMER UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT
(JA) 透明導電膜の成膜方法及び成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for forming a transparent conductive film, wherein a zinc oxide-based transparent conductive film is formed on a substrate by sputtering using a target containing a zinc oxide material. The sputtering is performed in a reactive gas atmosphere containing two or three members selected from the group consisting of a hydrogen gas, an oxygen gas and water vapor.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour former un film conducteur transparent, caractérisé en ce qu'un film conducteur transparent à base d'oxyde de zinc est formé sur un substrat par pulvérisation en utilisant une cible contenant un matériau d'oxyde de zinc. La pulvérisation est effectuée dans une atmosphère de gaz réactif contenant deux ou trois éléments choisis dans le groupe constitué d'un gaz d'hydrogène, d'un gaz d'oxygène et de la vapeur d'eau.
(JA) 酸化亜鉛系材料を含むターゲットを用いて、スパッタリングにより基板上に酸化亜鉛系の透明導電膜を成膜する透明導電膜の成膜方法であって、水素ガス、酸素ガス、及び水蒸気の群から選択される2種または3種を含む反応性ガス雰囲気中で、前記スパッタリングを行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)