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1. (WO2009084170) DISPOSITIF DE CUISSON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/084170    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/003796
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 16.12.2008
CIB :
F24C 7/02 (2006.01), H05B 6/64 (2006.01)
Déposants : Panasonic Corporation [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
UCHIYAMA, Satomi; (US Seulement)
Inventeurs : UCHIYAMA, Satomi;
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-337594 27.12.2007 JP
Titre (EN) COOKING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CUISSON
(JA) 加熱調理器
Abrégé : front page image
(EN)A cooking device in which an object to be heated placed on a heating plate located at an intermediate height in a heating chamber can be sufficiently heated by high frequency waves. A control section (24) performs control such that, based on cooking information inputted from an operation section (23), a first object (12a) to be heated placed on a placement base (12c) at the bottom surface of the heating chamber (11) is cooked by a lower heat source including a high frequency heat source (21) and, in addition, a second object (12b) to be heated placed on the heating plate (30) dividing the heating chamber (11) along a horizontal plane can be simultaneously cooked by an upper heat source (20). In the above, the lower the mounting position of the heating plate (30) and the farther away the heating plate (30) is from the upper heat source (20), the more amount of high frequency waves which are supplied from the high frequency wave heat source (21) to a heating chamber (11a) below the heating plate (30) is supplied to above the heating plate (30). As a result, the second object (12b) to be heated can be sufficiently heated by the high frequency microwaves. This allows that the inside of the object (12b) to be heated can also be efficiently cooked in synchronism with the surface of the second object (12b) being cooked by the upper heat source (20).
(FR)L'invention concerne un dispositif de cuisson dans lequel un objet devant être chauffé placé sur une plaque de chauffage située à une hauteur intermédiaire dans une chambre de chauffage peut être suffisamment chauffé par des ondes à haute fréquence. Une section de commande (24) réalise la commande de telle sorte que, sur la base des informations de cuisson entrées par une section de fonctionnement(23), un premier objet (12a) devant être chauffé placé sur une base de placement (12c) sur la surface inférieure de la chambre de chauffage (11) soit cuit par une source de chaleur inférieure comprenant une source de chaleur à haute fréquence (21) et, de plus, un second objet (12b) devant être chauffé placé sur la plaque de chauffage (30) divisant la chambre de chauffage (11) le long d'un plan horizontal puisse être simultanément cuit par une source de chaleur supérieure (20). Ci-dessus, plus la position de montage de la plaque de chauffage (30) est basse et plus la plaque de chauffage (30) est éloignée de la source de chaleur supérieure (20), plus la quantité d'ondes à haute fréquence fournies depuis la source de chaleur à haute fréquence (21) jusqu'à une chambre de chauffage (11a) en dessous de la plaque de chauffage (30) est importante au-dessus de la plaque de chauffage (30). Par conséquent, le second objet (12b) devant être chauffé peut être suffisamment chauffé par les microondes à haute fréquence. De cette manière, l'intérieur de l'objet (12b) devant être chauffé peut être cuit efficacement également en synchronisation avec la surface du second objet (12b) cuit par la source de chaleur supérieure (20).
(JA) 加熱室の途中高さ位置に設けられている加熱皿上の被加熱物に対する高周波加熱を十分に行うことができる加熱調理器を提供する。  制御部24による制御により、操作部23から入力された調理情報に基づいて、加熱室11の底面の載置台12cに載置された第1の被加熱物12aを高周波熱源21を含む下熱源により調理するとともに、加熱室11を上下に分割する加熱皿30に載置された第2の被加熱物12bを上熱源20により、同時に調理することができる。この際、加熱皿30の取付け位置が低く上熱源20から遠ざかるほど、高周波熱源21から加熱皿30の下側の加熱室11aに供給された高周波を多く加熱皿30の上側に供給されるので、第2の被加熱物12bを十分に高周波加熱することができる。このため、上熱源20によって第2の被加熱物12bの表面が加熱調理されるのに対応して、内部の加熱調理も効率よく行うことができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)