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1. (WO2009083468) PROCÉDÉ POUR LE DÉPOLISSAGE SÉLECTIF DE LA SURFACE D'UN ARTICLE EN VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/083468    N° de la demande internationale :    PCT/EP2008/067828
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 18.12.2008
CIB :
C03C 19/00 (2006.01), B44C 1/22 (2006.01)
Déposants : AGC GLASS EUROPE [BE/BE]; Chaussée de La Hulpe, 166 B-1170 Bruxelles (Watermael-Boitsfort) (BE) (Tous Sauf US).
SCARSO, Florent [BE/BE]; (BE) (US Seulement).
JACOBS, Nadia [BE/BE]; (BE) (US Seulement)
Inventeurs : SCARSO, Florent; (BE).
JACOBS, Nadia; (BE)
Mandataire : DECAMPS, Alain; Centre R & D Department Intellectual Property Rue de l'Aurore, 2 B-6040 Jumet (BE)
Données relatives à la priorité :
07123746.5 20.12.2007 EP
Titre (EN) METHOD FOR THE SELECTIVE ETCHING OF THE SURFACE OF A GLASS ARTICLE
(FR) PROCÉDÉ POUR LE DÉPOLISSAGE SÉLECTIF DE LA SURFACE D'UN ARTICLE EN VERRE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method for the selective etching of a glass article by sanding that comprises a first step of selective protection of the surface with a wax layer, a second step of sand etching, and a third step of cleaning for removing the wax. The deposition of the protective wax layer can be carried out by a dispensing system that comprises at least one inkjet head, by screen-printing or using a hot applicator.
(FR)Procédé pour le dépolissage sélectif d'un article en verre par sablage, comprenant une première étape de protection sélective de la surface avec une couche de cire, une seconde étape de dépolissage par sablage, et une troisième étape de nettoyage visant à éliminer la cire. Le dépôt de la couche protectrice de cire peut être réalisé au moyen d'un système de distribution comprenant au moins une tête à jet d'encre, par sérigraphie ou par un applicateur à chaud.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)