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1. (WO2009082546) FILMS DE POLYÉTHYLÈNE ET PROCÉDÉ POUR LEUR PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/082546    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/082049
Date de publication : 02.07.2009 Date de dépôt international : 31.10.2008
CIB :
C08F 210/16 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), C08L 23/04 (2006.01), B32B 27/32 (2006.01)
Déposants : EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC. [US/US]; 5200 Bayway Drive, Baytown, TX 77520-5200 (US) (Tous Sauf US).
FISCUS, David, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
VAN HOYWEGHEN, Danny [BE/BE]; (BE) (US Seulement).
LU, X., Christina [US/US]; (US) (US Seulement).
GALUSKA, Alan, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FISCUS, David, M.; (US).
VAN HOYWEGHEN, Danny; (BE).
LU, X., Christina; (US).
GALUSKA, Alan, A.; (US)
Mandataire : ABDON, Robert, L.; Exxonmobil Chemical Company, Law Technology, P.O Box 2149, Baytown, TX 77522-2149 (US)
Données relatives à la priorité :
11/959,078 18.12.2007 US
12/130,135 30.05.2008 US
Titre (EN) POLYETHYLENE FILMS AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) FILMS DE POLYÉTHYLÈNE ET PROCÉDÉ POUR LEUR PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)This invention relates to a polyethylene film having a MD 1% Secant Modulus of 220 MPa or more and an MD Elmendorf Tear of Y g/micron, where Y > -0.4515(Dart Drop in g/micron) + 33.3 g/microns, wherein the MD Elmendorf tear is at least 11.8 g/micron.
(FR)La présente invention concerne un film de polyéthylène ayant un module sécant à 1 % MD de 220 MPa ou plus et une résistance à la déchirure Elmendorf MD de Y g/micron, où Y ³ -0,4515 (Dart Drop en g/micron) + 33,3 g/micron, où la résistance à la déchirure Elmendorf MD est d'au moins 11,8 g/micron.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)