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1. (WO2009082226) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE NIVELLEMENT D'UN OBJET ET PROCÉDÉ DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/082226    N° de la demande internationale :    PCT/NL2008/050842
Date de publication : 02.07.2009 Date de dépôt international : 22.12.2008
CIB :
G03F 9/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
BUSSINK, Peter Gerhardus Wilhelmus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BRUINSMA, Anastasius Jacobus Anicetus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MEIJER, Hendricus Johannes Maria [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BUSSINK, Peter Gerhardus Wilhelmus; (NL).
BRUINSMA, Anastasius Jacobus Anicetus; (NL).
MEIJER, Hendricus Johannes Maria; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Petrus, Johannes, Waltherus; ASML Corporate Intellectual Property P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/008,588 21.12.2007 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD FOR LEVELLING AN OBJECT, AND LITHOGRAPHIC PROJECTION METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE NIVELLEMENT D'UN OBJET ET PROCÉDÉ DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus configured to project a patterned radiation beam onto a substrate, comprising: a support configured to hold a patterned object; and a measurement system configured to detect orientations and/or densities of user area structures that are present on a user area of the patterned object. The apparatus according to any of the preceding claims, further comprising a levelling information system configured to generate levelling information by utilizing the detected orientations and/or densities of the user area structures; and a levelling system configured to position a level of the patterned object based on the levelling information.
(FR)L'invention concerne un appareil lithographique configuré de façon à projeter sur un substrat un faisceau de rayonnement suivant un motif, l'appareil comprenant : un support configuré de façon à porter un objet recevant un motif; et un système de mesure configuré de façon à détecter les orientations et / ou les densités de structures de zone d'utilisateur présentes sur une zone d'utilisateur de l'objet recevant un motif. L'appareil comprend en outre, dans certains modes de réalisation, un système d'information de nivellement configuré de façon à générer des informations de nivellement en utilisant les orientations et / ou les densités détectées des structures de zone d'utilisateur; et un système de nivellement configuré de façon à positionner un niveau de l'objet recevant un motif sur la base des informations de nivellement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)