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1. (WO2009081748) PROCÉDÉ DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE RADIOMÉTRIQUE ET SYSTÈME DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE RADIOMÉTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/081748    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/072518
Date de publication : 02.07.2009 Date de dépôt international : 11.12.2008
CIB :
G01J 5/00 (2006.01)
Déposants : TOYO UNIVERSITY [JP/JP]; 28-20, Hakusan 5-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1128606 (JP) (Tous Sauf US).
IUCHI, Tohru; (US Seulement).
HIRAKA, Kensuke; (US Seulement)
Inventeurs : IUCHI, Tohru; .
HIRAKA, Kensuke;
Mandataire : MIYOSHI, Hidekazu; Toranomon Kotohira Tower 2-8, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-328667 20.12.2007 JP
Titre (EN) RADIOMETRIC TEMPERATURE MEASURING METHOD AND RADIOMETRIC TEMPERATURE MEASURING SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE RADIOMÉTRIQUE ET SYSTÈME DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE RADIOMÉTRIQUE
(JA) 放射測温方法及び放射測温システム
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a radiometric temperature measuring method and a radiometric temperature measuring system (10). A thin film (2) is formed on a substrate (1). The polarized radiation luminance component emitted from the thin film (2) is measured in a range of angle ϑeic where the emissivity does not vary. From the result of the measurement of the polarized radiation luminance component, the temperature of the thin film (2) is calculated. The polarized radiation luminance component is a p-wave polarized radiation luminance component polarized by a polarizer (3), and the p-wave polarized radiation luminance component is measured by means of a radiometer (4). A pseudo-black body (5) is disposed in a position mirror-symmetrical with respect to the radiometer (4). The radiometer (4) is shielded against the background radiation. The temperature of the pseudo-black body (5) is measured, and the measured temperature is taken into consideration in the calculation of the temperature of the thin film (2).
(FR)La présente invention concerne un procédé de mesure de la température radiométrique et système de mesure de la température radiométrique (10). Un film mince (2) est formé sur un substrat (1). Le composant lumineux de rayonnement polarisé émis par le film mince (2) est mesuré dans une plage d'angle ϑeic dans laquelle l'émissivité ne varie pas. La température du film mince (2) est calculée à partir du résultat de la mesure du composant lumineux de rayonnement polarisé. Le composant lumineux de rayonnement polarisé est un composant lumineux de rayonnement polarisé d'onde p polarisé par un polariseur (3) et le composant lumineux de rayonnement polarisé d'onde p est mesuré à l'aide d'un radiomètre (4). Un corps pseudo noir (5) est disposé dans une position de symétrie miroir par rapport au radiomètre (4). Le radiomètre (4) est blindé contre le rayonnement de fond. La température du corps pseudo noir (5) est mesurée et la température mesurée est prise en considération dans le calcul de la température du fil mince (2).
(JA) 放射測温方法及び放射測温システム(10)において、基板(1)上に薄膜(2)を形成し、この薄膜(2)から放射される偏光放射輝度成分を放射率が変化しない角度θeic範囲内において測定し、この偏光放射輝度成分の測定結果に基づき薄膜(2)の温度を演算する。偏光放射輝度成分は偏光素子(3)により偏光されたp波偏光放射輝度成分であり、このp波偏光放射輝度成分は放射計(4)により測定される。放射計(4)に対して鏡面対称となる位置には擬似黒体(5)が配設され、放射計(4)への背景放射が遮蔽される。更に、擬似黒体(5)の温度が測定され、この測定された温度は薄膜(2) の温度の演算に参酌される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)