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1. (WO2009080092) PROCÉDÉ POUR DÉPOSER DES FILMS D'OXYDE MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/080092    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/064158
Date de publication : 02.07.2009 Date de dépôt international : 19.12.2007
CIB :
C23C 14/30 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01)
Déposants : TALIANI, Carlo [IT/IT]; (IT).
NOZAR, Petr [CZ/IT]; (IT)
Inventeurs : TALIANI, Carlo; (IT).
NOZAR, Petr; (IT)
Mandataire : BONGIOVANNI, Simone; STUDIO TORTA Via Viotti, 9 I-10121 Torino (IT)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR DEPOSITING METAL OXIDE FILMS
(FR) PROCÉDÉ POUR DÉPOSER DES FILMS D'OXYDE MÉTALLIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method for depositing a metal oxide film on a surface of a supporting body for the film, comprising the steps of: - providing a deposition chamber; - providing a pulsed beam of electrons and plasma in the deposition chamber; - supplying a supporting body in the deposition chamber, the supporting body having a deposition surface; - providing a target body made of a material which comprises the metal oxide in the deposition chamber, the target body having a target surface; - forming a plume of metal oxide ablated from the target surface by means of the impact of the pulsed beam of electrons and plasma against the target surface; and - depositing a metal oxide film on the deposition surface by means of the contact of the plume with the deposition surface.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour déposer un film d'oxyde métallique sur une surface d'un corps de support pour le film, comprenant les étapes de : réalisation d'une chambre de déposition; production d'un faisceau pulsé d'électrons et de plasma dans la chambre de déposition; d'introduction d'un corps de support dans la chambre de déposition, le corps de support comportant une surface de déposition; d'introduction d'un corps cible, réalisé en un matériau qui comprend l'oxyde métallique, dans la chambre de déposition, le corps cible comportant une surface cible; formation d'un panache d'oxyde métallique produit par ablation à partir de la surface cible à l'aide de l'impact du faisceau pulsé d'électrons et de plasma contre la surface cible; et dépôt d'un film d'oxyde métallique sur la surface de déposition à l'aide du contact du panache avec la surface de déposition.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)