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1. (WO2009038690) BOUILLIE DE BARRIÈRE À FAIBLE PH À BASE DE DIOXYDE DE TITANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/038690    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/010760
Date de publication : 26.03.2009 Date de dépôt international : 16.09.2008
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; Legal Department, 870 North Commons Drive, Aurora, Illinois 60504 (US)
Inventeurs : WHITE, Daniela; (US).
PARKER, John; (US)
Mandataire : WESEMAN, Steven; Associate General Counsel, Intellectual Property, Cabot Microelectronics Corporation, 870 North Commons Drive, Aurora, Illinois 60504 (US)
Données relatives à la priorité :
11/856,790 18.09.2007 US
Titre (EN) LOW PH BARRIER SLURRY BASED ON TITANIUM DIOXIDE
(FR) BOUILLIE DE BARRIÈRE À FAIBLE PH À BASE DE DIOXYDE DE TITANE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a method of chemically-mechanically polishing a substrate. A substrate is contacted with a polishing pad and a polishing composition comprising an abrasive consisting of (A) particles consisting of titanium dioxide having a rutile structure and (B) particles consisting of titanium dioxide having an anatase structure, wherein an x-ray diffraction pattern of the particles has a ratio of X/Y of 0.5 or more, wherein X is an intensity of a peak in an x-ray diffraction curve representing a d-spacing of 3.24 Å, and Y is an intensity of a peak in an x-ray diffraction curve representing a d-spacing of 3.51 Å, and water. The polishing component is moved relative to the substrate, and at least a portion of the substrate is abraded to polish the substrate.
(FR)L'invention porte sur un procédé de polissage chimio-mécanique d'un substrat. Un substrat est mis en contact avec un tampon de polissage et une composition de polissage comprenant un abrasif consistant en (A) des particules constituées par du dioxyde de titane ayant une structure de rutile et (B) des particules constituées par du dioxyde de titane ayant une structure d'anatase, un diagramme de diffraction des rayons X des particules ayant un rapport de X/Y de 0,5 ou plus, X étant une intensité d'un pic dans une courbe de diffraction des rayons X représentant un espacement d de 3,24 Å, et Y étant une intensité d'un pic dans une courbe de diffraction de rayons X représentant un espacement d de 3,51 Å, et de l'eau. Le composant de polissage est déplacé par rapport au substrat, et au moins une partie du substrat est abrasée pour polir le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)