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1. (WO2009038326) ÉPURATEUR UTILISANT UN FILTRE À TAMIS ET APPAREIL POUR TRAITEMENT D'EFFLUENTS GAZEUX DANS DES ÉQUIPEMENTS DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS UTILISANT CET ÉPURATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/038326    N° de la demande internationale :    PCT/KR2008/005466
Date de publication : 26.03.2009 Date de dépôt international : 17.09.2008
CIB :
B01D 46/00 (2006.01)
Déposants : PIEZONICS CO. LTD. [KR/KR]; 35-3 BI Center, KITECH, HongCheon-ri, IbJang-myon, Cheonan-si, Chungcheongnam-do 330-825 (KR) (Tous Sauf US).
KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY [KR/KR]; 35-3 HongCheon-ri, IbJang-myon, Cheonan-si, Chungcheongnam-do 330-825 (KR) (Tous Sauf US).
BYUN, Chulsoo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HAN, Mancheol [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : BYUN, Chulsoo; (KR).
HAN, Mancheol; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2007-0096583 21.09.2007 KR
10-2008-0088346 08.09.2008 KR
Titre (EN) SCRUBBER USING MESH FILTER AND APPARATUS FOR EXHAUST GAS TREATMENT IN SEMICONDUCTOR FABRICATION EQUIPMENTS USING THE SAME
(FR) ÉPURATEUR UTILISANT UN FILTRE À TAMIS ET APPAREIL POUR TRAITEMENT D'EFFLUENTS GAZEUX DANS DES ÉQUIPEMENTS DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS UTILISANT CET ÉPURATEUR
Abrégé : front page image
(EN)The field of the present invention relates to a scrubber using mesh filter and an exhaust gas treatment system using the scrubber, which makes it possible to collect powders on-time with little need for maintenances or repairs of the scrubber. More particularly, in the field of semiconductor fabrication industries the main process such as deposition or etching is rarely interrupted for the maintenance of the scrubber, hence the productivity is enhanced and the environment is saved. The present invention comprises : a process chamber to perform a fabrication process of the semiconductor devices; a process vacuum pump to inhale the exhaust gas from the process chamber; a housing provided with an inlet port and outlet port for an exhaust gas; a mesh filter which is placed between the inlet and outlet port of the housing, which passes the exhaust gas through, and which captures powders contained the exhaust gas at a capturing surface thereof; a powder detaching means to detach powders from the capturing surface of the mesh filter; a discharge port which is provided at a side of the housing and connected to a vacuum suction means to release the powders detached from the housing; a by-pass line which connects the process chamber directly to the process vacuum pump; and on/off valves controlling the flow of the exhaust gas from the process chamber to either the scrubber or the process vacuum pump.
(FR)La présente invention concerne un épurateur utilisant un filtre à tamis et un appareil de traitement d'effluents gazeux utilisant cet épurateur, ce qui permet de recueillir instantanément des poudres sans que cela ne demande beaucoup d'opérations d'entretien ou de réparation de l'épurateur. En particulier, dans le cas des industries de fabrication de semi-conducteurs, le traitement principal tel que le dépôt ou l'attaque chimique est rarement interrompu, et l'environnement est épargné. La présente invention comprend: une chambre de traitement pour l'exécution d'un processus de fabrication des dispositifs à semi-conducteurs; une pompe à vide de processus pour aspirer les effluents gazeux provenant de la chambre de traitement; une enceinte pourvue d'un orifice d'entrée et d'un orifice de sortie pour un effluent gazeux; un filtre à tamis qui est disposé entre l'orifice d'entrée et l'orifice de sortie de l'enceinte, qui est traversé par l'effluent gazeux, et qui retient à sa surface d'arrêt les poudres contenues dans l'excipient gazeux; un organe de décrochage des poudres permettant de décrocher la poudre retenue sur la surface d'arrêt du filtre à tamis; un orifice de décharge situé sur un côté de l'enceinte et relié à un organe d'aspiration de façon à libérer les poudres décrochées de l'enceinte; une dérivation reliant la chambre de traitement directement à la pompe à vide de processus; et des robinets marche/arrêt servant à commander l'écoulement de l'effluent gazeux au départ de la chambre de traitement en direction, soit de l'épurateur, soit de la pompe à vide de processus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)