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1. (WO2009035126) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF MICROFLUIDIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/035126    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/066798
Date de publication : 19.03.2009 Date de dépôt international : 10.09.2008
CIB :
G01N 35/08 (2006.01), B01J 19/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01), G01N 37/00 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo, 1468501 (JP) (Tous Sauf US).
TOKITA, Toshinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOKITA, Toshinobu; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-239244 14.09.2007 JP
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING MICROFLUIDIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF MICROFLUIDIQUE
Abrégé : front page image
(EN) There is provided a method of producing a microfluidic device including a substrate having a depressed portion and a cover member, whereby to reduce the dispersion of a geometric individual difference and the possibility that a non-joint area can occur in a joint portion between the substrate and the cover member. At the time of producing the microfluidic device, the depressed potion serving as a channel, a chamber and a reservoir is formed in advance in the substrate and a liquid-state energy ray curable resin is applied to the surface of the substrate in which the depressed portion is formed. The energy ray curable resin is cured by an energy ray irradiation unit and caused to serve as the cover on the depressed portion of the substrate, thereby to form the channel, chamber and reservoir.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif microfluidique comprenant un substrat comportant une partie en creux et un élément de couvercle, pour réduire la dispersion d'une différence individuelle géométrique et la possibilité pour qu'une zone non jointe puisse exister dans une partie de joint entre le substrat et l'élément de couvercle. Lors de la fabrication du dispositif microfluidique, la partie en creux servant de canal, de chambre et de réservoir est formée à l'avance dans le substrat et une résine à l'état liquide durcissable au rayonnement est appliquée sur la surface du substrat dans laquelle la partie en creux est formée. Ladite résine est durcie par une unité d'exposition au rayonnement et est amenée à servir de couvercle sur la partie en creux du substrat, pour former ainsi le canal, la chambre et le réservoir.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)