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1. (WO2009034954) SUBSTRAT EN VERRE DE QUARTZ CONTENANT DU TiO2
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/034954    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/066199
Date de publication : 19.03.2009 Date de dépôt international : 09.09.2008
CIB :
B29C 33/38 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
IKUTA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAHASHI, Yasutomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKAMURA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IKUTA, Yoshiaki; (JP).
IWAHASHI, Yasutomi; (JP).
OKAMURA, Kenji; (JP)
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-237989 13.09.2007 JP
Titre (EN) TiO2-CONTAINING QUARTZ GLASS SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT EN VERRE DE QUARTZ CONTENANT DU TiO2
(JA) TiO2含有石英ガラス基板
Abrégé : front page image
(EN)A TiO2-containing quartz glass substrate which, when used as a molding substrate for nanoimprint lithography, can form a rugged pattern having dimensional fluctuations within ±10%. The TiO2-containing quartz glass substrate is characterized in that the coefficient of thermal expansion at 15-35°C is within ±200 ppb/°C, the TiO2 concentration is 4-9 wt.%, and the TiO2 concentration distribution in the substrate surface on the side where a transfer pattern is to be formed is within ±1 wt.%.
(FR)L'invention porte sur un substrat en verre de quartz contenant du TiO2, lequel, lorsqu'il est utilisé comme substrat de moulage pour une lithographie par nano-impression, peut former un motif rugueux ayant des fluctuations dimensionnelles dans la plage de ±10 %. Le substrat en verre de quartz contenant du TiO2 est caractérisé par le fait que le coefficient de dilatation thermique à 15-35°C est dans la plage de ±200 ppb/°C, la concentration en TiO2 est de 4-9 % en poids, et la distribution de concentration en TiO2 a la surface du substrat du côté où un motif de transfert doit être formé est dans la plage de ±1 % en poids.
(JA) 本発明は、ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±10%以内の凹凸パターンを形成することができるTiO2含有石英ガラス基板を提供することを課題とする。本発明は、15~35°Cにおける熱膨張係数が±200ppb/°C以内であり、TiO2濃度が4~9wt%であり、転写パターンを形成する側の基板表面におけるTiO2濃度分布が、±1wt%以内であることを特徴とするTiO2含有石英ガラス基板に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)