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1. (WO2009033067) SYSTÈME DE TRAITEMENT COMBINATOIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/033067    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/075459
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 05.09.2008
CIB :
H01L 21/20 (2006.01), H01L 21/44 (2006.01), C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : INTERMOLECULAR, INC. [US/US]; 2865 Zanker Road San Jose, CA 95134 (US) (Tous Sauf US).
ENDO, Rick [US/US]; (US) (US Seulement).
WEINER, Kurt [US/US]; (US) (US Seulement).
DE, Indranil [US/US]; (US) (US Seulement).
TSUNG, James [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHAO, Maosheng [CN/US]; (US) (US Seulement).
CHENG, Jeremy [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ENDO, Rick; (US).
WEINER, Kurt; (US).
DE, Indranil; (US).
TSUNG, James; (US).
ZHAO, Maosheng; (US).
CHENG, Jeremy; (US)
Mandataire : GENCARELLA, Michael, L.; Martine Penilla & Gencarella, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 200, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
60/969,955 05.09.2007 US
12/027,980 07.02.2008 US
12/028,643 08.02.2008 US
Titre (EN) COMBINATORIAL PROCESS SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT COMBINATOIRE
Abrégé : front page image
(EN)A combinatorial processing chamber is provided. The combinatorial processing chamber is configured to isolate a radial portion of a rotatable substrate support, which in turn is configured to support a substrate. The chamber includes a plurality of clusters process heads in one embodiment. An insert having a base plate disposed between the substrate support and the process heads defines a confinement region for a deposition process in one embodiment. The base plate has an opening to enable access of the deposition material to the substrate. Through rotation of the substrate and movement of the opening, multiple regions of the substrate are accessible for performing combinatorial processing on a single substrate.
(FR)L'invention concerne une chambre de traitement combinatoire conçue pour isoler une partie radiale d'un support de substrat rotatif, lequel support est configuré pour porter un substrat. Dans un mode de réalisation, la chambre comprend plusieurs grappes de têtes de traitement. Dans un mode de réalisation, une pièce rapportée dont une plaque de base est disposée entre le support de substrat et les têtes de traitement délimite une zone de confinement destinée à un traitement par dépôt. La plaque de base comporte une ouverture qui permet au matériel de dépôt d'accéder au substrat. La rotation du substrat et le déplacement de l'ouverture permettent d'accéder à plusieurs zones du substrat pour effectuer un traitement combinatoire sur un seul substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)