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1. (WO2009032063) CORPS EN CÉRAMIQUE POUR LAMPE À DÉCHARGE COMPRENANT UNE ZONE OPAQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/032063    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/009844
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 19.08.2008
CIB :
H01J 61/30 (2006.01)
Déposants : OSRAM GESELLSCHAFT MIT BESCHRÄNKTER HAFTUNG [DE/DE]; Hellabrunner Strasse 1, 81543 München (DE) (Tous Sauf US).
HUTTINGER, Roland [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
TARRY, Christopher, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
WEI, George, C. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HUTTINGER, Roland; (DE).
TARRY, Christopher, A.; (US).
WEI, George, C.; (US)
Mandataire : CHICK, Marshall, J.; Frishauf, Holtz, Goodman & Chick, P.C., 220 Fifth Avenue, 16th Fl., New York, NY 10001-7708 (US)
Données relatives à la priorité :
11/851,802 07.09.2007 US
Titre (EN) CERAMIC DISCHARGE VESSEL HAVING AN OPAQUE ZONE AND METHOD OF MAKING SAME
(FR) CORPS EN CÉRAMIQUE POUR LAMPE À DÉCHARGE COMPRENANT UNE ZONE OPAQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)An opaque zone in the polycrystalline (PCA) discharge vessel of a high intensity discharge lamp may be made by creating residual pores in predetermined regions of the final-sintered discharge vessel. The control over the placement of the opaque zone is achieved by forming a carbonaceous residue in a specific region of the discharge vessel prior to final sintering. During sintering, the carbonaceous material causes residual porosity in the sintered PCA. The higher emissivity of the opaque PCA provides localized cooling in order to provide more control over the condensate behavior in the discharge vessel.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation d'une zone opaque dans le corps en alumine polycristalline (PCA) d'une lampe à décharge à haute intensité qui consiste à créer des pores résiduels dans des régions prédéterminées du corps qui sera fritté au final. Pour commander le positionnement de la zone opaque, on forme un résidu carboné dans une région spécifique du corps avant le frittage final. Au cours du frittage, la matière carbonée induit la porosité résiduelle de l'alumine polycristalline frittée. L'émissivité supérieure de la PCA opaque assure le refroidissement localisé qui entraîne une meilleure régulation du comportement de la condensation dans le corps de lampe à décharge.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)