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1. (WO2009031886) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE UTILISANT UN PLASMA À DÉCHARGE LUMINESCENTE À LA PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/031886    N° de la demande internationale :    PCT/NL2008/050557
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 20.08.2008
CIB :
C23C 16/02 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM MANUFACTURING EUROPE B.V. [NL/NL]; Oudenstaart 1, NL-5047 TK Tilburg (NL) (Tous Sauf US).
DE VRIES, Hindrik Willem [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : DE VRIES, Hindrik Willem; (NL)
Mandataire : VAN WESTENBRUGGE, Andries; Nederlandsch Octrooibureau, Postbus 29720, NL-2502 LS Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
07115963.6 07.09.2007 EP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION USING AN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE PLASMA
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE UTILISANT UN PLASMA À DÉCHARGE LUMINESCENTE À LA PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Apparatus and method for atomic layer deposition on a surface of a substrate (6) in a treatment space. A gas supply device (15, 16) is present for providing various gas mixtures to the treatment space (1, 2). The gas supply device (15, 16) is arranged to provide a gas mixture with a precursor material to the treatment space for allowing reactive surface sites to react with precursor material molecules to give a surface covered by a monolayer of precursor molecules attached via the reactive sites to the surface of the substrate. Subsequently, a gas mixture comprising a reactive agent capable to convert the attached precursor m molecules to active precursor sites is provided. A plasma generator (10) is present for generating an atmospheric pressure plasma in the gas mixture comprising the reactive agent, the plasma generator being arranged remote from the treatment space (1, 2).
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé de dépôt d'une couche atomique sur une surface d'un substrat (6) dans un espace de traitement. Un dispositif d'alimentation en gaz (15, 16) est présent pour fournir divers mélanges gazeux à l'espace de traitement (1, 2). Le dispositif d'alimentation en gaz (15, 16) est conçu de façon à fournir un mélange gazeux comprenant un matériau précurseur à l'espace de traitement pour permettre aux sites de surface réactifs de réagir avec les molécules de matériau précurseur pour donner une surface couverte par une monocouche de molécules précurseurs fixées au moyen des sites réactifs à la surface du substrat. Ensuite, un mélange gazeux comprenant un agent réactif capable de convertir les molécules précurseurs liées en sites précurseurs actifs est fourni. Un générateur de plasma (10) est fourni pour générer un plasma à la pression atmosphérique dans le mélange gazeux comprenant l'agent réactif, le générateur de plasma étant placé à distance de l'espace de traitement (1, 2).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)