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1. (WO2009031642) COMPOSITION PHARMACEUTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/031642    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/066056
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 05.09.2008
CIB :
A61K 31/4178 (2006.01), A61K 9/08 (2006.01), A61K 47/10 (2006.01), A61P 17/00 (2006.01), A61P 17/08 (2006.01), A61P 31/10 (2006.01)
Déposants : POLA PHARMA INC. [JP/JP]; 8-9-5, Nishigotanda, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP) (Tous Sauf US).
NIHON NOHYAKU CO., LTD. [JP/JP]; 2-5, Nihonbashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038236 (JP) (Tous Sauf US).
MASUDA, Takaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Naoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAGAWA, Hideaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MASUDA, Takaaki; (JP).
KOBAYASHI, Naoko; (JP).
SASAGAWA, Hideaki; (JP)
Mandataire : KAWAGUCHI, Yoshiyuki; Acropolis 21 Building 6th floor, 4-10, Higashi Nihonbashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-229619 05.09.2007 JP
Titre (EN) PHARMACEUTICAL COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHARMACEUTIQUE
(JA) 医薬組成物
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an antifungal agent for external application, which is characterized by containing a compound represented by the general formula (1) below, 50-95% by mass of an alcohol, and 0.1-35% by mass of water and/or an anionic surfactant. X is a halogen or H. General formula (1)
(FR)L'invention concerne un agent antifongique conçu pour une application externe et contenant, de façon caractéristique, un composé représenté par la formule (1) ci-dessous, 50-95% en masse d'un alcool et 0,1-35% en masse d'eau et/ou d'un tensioactif anionique. X représente halogène ou H. Formule (1).
(JA)一般式(1)で示される化合物と、アルコールを50~95質量%と、水及び/又はアニオン性界面活性剤を0.1~35質量%と、を含有することを特徴とする、抗真菌用外用剤。X=ハロゲンまたはH 一般式(1)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)