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1. (WO2009031623) STRUCTURE D'ISOLATION THERMIQUE PAR LE VIDE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/031623    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/065990
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 04.09.2008
CIB :
F16L 59/06 (2006.01)
Déposants : The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. [JP/JP]; 1-88, Oyodonaka 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310076 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAJIMA, Hiroyuki; (US Seulement)
Inventeurs : NAKAJIMA, Hiroyuki;
Mandataire : NAITO, Teruo; Shin-Ei Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-231442 06.09.2007 JP
Titre (EN) VACUUM HEAT INSULATION STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) STRUCTURE D'ISOLATION THERMIQUE PAR LE VIDE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 真空断熱構造体及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A vacuum heat insulation structure which has excellent heat-insulating performance and is excellent in resistance to expansion/shrinkage and flexing and which, even in long-term use, is less apt to generate cracks or pinholes and suffers no decrease in heat-insulating performance; and a process for producing the structure. The vacuum heat insulation structure comprises: a multilayered film comprising a polyolefin film (A) having a metal or metal oxide vapor-deposited thereon and a gas-barrier film (B) having a metal or metal oxide vapor-deposited thereon; and a heat-insulating material. It is characterized in that the polyolefin film (A) and the gas-barrier film (B) have been laminated so that that side of the film (A) which has the vapor-deposited metal or metal oxide faces that side of the film (B) which has the vapor-deposited metal or metal oxide, and that the heat-insulating material is hermetically packaged with the multilayered film.
(FR)L'invention porte sur une structure d'isolation thermique par le vide qui présente une excellente performance d'isolation thermique et une excellente résistance à la dilatation/contraction et à la flexion et qui, même après une utilisation de longue durée, est moins susceptible de générer des fissures ou des piqûres et ne souffre d'aucune diminution de la performance d'isolation thermique ; et sur un procédé pour produire la structure. La structure d'isolation thermique par le vide comprend : un film multicouche comprenant un film de polyoléfine (A) ayant un métal ou un oxyde métallique déposé en phase vapeur sur celui-ci et un film de barrière au gaz (B) ayant un métal ou un oxyde métallique déposé en phase vapeur sur celui-ci ; et un matériau d'isolation thermique. La structure est caractérisée par le fait que le film de polyoléfine (A) et le film de barrière au gaz (B) ont été stratifiés de telle sorte que le côté du film (A) qui présente le métal ou l'oxyde métallique déposé en phase vapeur est tourné vers le côté du film (B) qui présente le métal ou l'oxyde métallique déposé en phase vapeur, et par le fait que le matériau d'isolation thermique est emballé de manière hermétique par le film multicouche.
(JA) 本発明は、優れた断熱性能を示し、更に、伸縮や屈曲に対する耐性に優れ、長期間使用した際にもクラックやピンホールが生じにくく断熱性能の低下しない真空断熱構造体及びその製造方法を提供する。具体的には、本発明は、金属或いは金属酸化物が蒸着されたポリオレフィン系フィルム(A)と、金属或いは金属酸化物が蒸着されたガスバリア性フィルム(B)を含む多層フィルムと断熱性材料を含む真空断熱構造体であって、該ポリオレフィン系フィルム(A)の金属或いは金属酸化物が蒸着された面と該ガスバリア性フィルム(B)の金属或いは金属酸化物が蒸着された面が向き合うように積層されて、且つ、該多層フィルムが断熱性材料を密封包装していることを特徴とする真空断熱構造体を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)