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1. (WO2009031602) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN POLYAMIDE ET COMPOSITION À BASE DE RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/031602    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/065932
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 04.09.2008
CIB :
C08G 73/22 (2006.01), C08G 69/32 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/037 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku Tokyo 1038666 (JP) (Tous Sauf US).
YUBA, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TOMIKAWA, Masao [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YUBA, Tomoyuki; (JP).
TOMIKAWA, Masao; (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-231165 06.09.2007 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING POLYAMIDE AND RESIN COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN POLYAMIDE ET COMPOSITION À BASE DE RÉSINE
(JA) ポリアミドの製造方法および樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a polyamide, wherein a diimidazolide compound represented by the general formula (1) below is reacted with a diamine compound represented by the general formula (2) below. This method enables to produce a high-molecular-weight alkali-soluble polyamide, which contains no chlorine, by a simple process.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un polyamide. Un composé diimidazolide représenté par la formule générale (1) ci-dessous est mis à réagir avec un composé diamine représenté par la formule générale (2) ci-dessous. Ledit procédé permet d'obtenir un polyamide de poids moléculaire élevé soluble dans les alcalis, qui ne contient pas de chlore, avec un procédé simple.
(JA) 下記一般式(1)で表されるジイミダゾリド化合物と、下記一般式(2)で表されるジアミン化合物とを反応させるポリアミドの製造方法。本発明は、塩素不含の高分子量アルカリ可溶性ポリアミドを簡易な工程で製造する方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)