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1. (WO2009031545) COMPOSITION DE MATÉRIAU DE BRASAGE À BASE DE NICKEL, PROCÉDÉ DE RÉPARATION PAR BRASAGE ET STRUCTURE RÉPARÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/031545    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/065782
Date de publication : 12.03.2009 Date de dépôt international : 02.09.2008
CIB :
B23K 35/30 (2006.01), B23K 1/19 (2006.01), B23K 31/02 (2006.01), C22C 19/03 (2006.01), C22C 19/05 (2006.01)
Déposants : IHI CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Toyosu 3-chome, Koto-ku, Tokyo 1358710 (JP) (Tous Sauf US).
OIWA, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIKIORI, Sadao [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WAKABAYASHI, Tsukasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUJI, Junji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OIWA, Naoki; (JP).
NISHIKIORI, Sadao; (JP).
WAKABAYASHI, Tsukasa; (JP).
TSUJI, Junji; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 100-6620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-227962 03.09.2007 JP
Titre (EN) NICKEL-BASED BRAZING MATERIAL COMPOSITION, METHOD OF BRAZING REPAIR, AND REPAIRED STRUCTURE
(FR) COMPOSITION DE MATÉRIAU DE BRASAGE À BASE DE NICKEL, PROCÉDÉ DE RÉPARATION PAR BRASAGE ET STRUCTURE RÉPARÉE
(JA) Ni基ろう材組成物、ろう付け補修方法、及び補修構造体
Abrégé : front page image
(EN)A nickel-based brazing material composition which has a makeup at least containing, in terms of mass%, 1.0-1.3% boron and 4.0-6.0% silicon, with the remainder being nickel and incidental impurities, and which, through brazing, gives a metallographic structure including a dispersed phase formed therein containing boron or silicon, the dispersed phase having a maximum length of 30 µm or smaller.
(FR)L'invention porte sur une composition de matériau de brasage à base de nickel qui a une structure qui contient au moins, en termes de pourcentage en masse, de 1,0 à 1,3 % de bore et de 4,0 à 6,0 % de silicium, le reste étant du nickel et des impuretés secondaires et qui, par brasage, donne une structure métallographique comprenant une phase dispersée formée dans celle-ci, contenant du bore ou du silicium, la phase dispersée ayant une longueur maximale de 30 µm, ou moins.
(JA) 少なくとも、質量%で、B:1.0%以上1.3%以下、Si:4.0%以上6.0%以下を含有し、残部がNi及び不可避不純物からなる組成を有し、ろう付け後の金属組織内にB又はSiを含む分散相を形成し、この分散相の最大長さが30μm以下であるNi基ろう材組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)