WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009028613) LENTILLE CRISTALLINE À DISTRIBUTION DE COURBURE ET INSTRUMENT DE MESURE DE LA RÉFLECTANCE DE RAYONS X
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/028613    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/065420
Date de publication : 05.03.2009 Date de dépôt international : 28.08.2008
CIB :
G21K 1/06 (2006.01)
Déposants : Kyoto University [JP/JP]; 36-1, Yoshida-honmachi, Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6068501 (JP) (Tous Sauf US).
TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (Tous Sauf US).
OKUDA, Hiroshi; (US Seulement).
NAKAJIMA, Kazuo; (US Seulement).
FUJIWARA, Kozo; (US Seulement)
Inventeurs : OKUDA, Hiroshi; .
NAKAJIMA, Kazuo; .
FUJIWARA, Kozo;
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-227174 31.08.2007 JP
Titre (EN) CURVATURE DISTRIBUTION CRYSTAL LENS AND X-RAY REFLECTANCE MEASURING INSTRUMENT
(FR) LENTILLE CRISTALLINE À DISTRIBUTION DE COURBURE ET INSTRUMENT DE MESURE DE LA RÉFLECTANCE DE RAYONS X
(JA) 曲率分布結晶レンズおよびX線反射率測定装置
Abrégé : front page image
(EN)A curvature distribution crystal lens is produced by embossing a Ge or Si (110) single crystal plate under a condition of temperature 1°C to 120°C below the melting point when the single crystal plate is a Ge plate and 1°C to 200°C below the melting point when the single crystal plate is a Si plate. The direction in which the crystal lattice face exhibits a maximum curvature is [001] or 30° or less from the [1-10] direction in the (110) plane, and the direction perpendicular thereto is that of the valley. The crystal lattice face is a linear cylindrically or logarithmically curved surface. With this, the integrated reflection intensity and the half width can be uniform in wide ranges. As a result, the incident angel range is wide and the light collection accuracy is high.
(FR)L'invention concerne une lentille cristalline à distribution de courbure, qui est produite par gaufrage d'une plaque monocristalline de Ge ou Si (110) à une condition de température de 1°C à 120°C au-dessous du point de fusion lorsque la plaque monocristalline est une plaque de Ge et de 1°C à 200°C au-dessous du point de fusion lorsque la plaque monocristalline est une plaque de Si. La direction dans laquelle la face du réseau cristallin présente une courbure maximale est [001] ou 30° ou moins par rapport à la direction [1-10] dans le plan (110), et la direction perpendiculaire à celle-ci est celle du creux. La face du réseau cristallin est une surface linéaire cylindriquement ou logarithmiquement incurvée. Avec ceci, l'intensité de réflexion intégrée et la demi-largeur peuvent être uniformes dans de larges plages. Par suite, la plage d'angles incidents est large et la précision de collecte de lumière est élevée.
(JA) 本発明に係る曲率分布結晶レンズは、GeまたはSiの(110)単結晶板を、Geの場合には融点より1°Cから120°C低い温度条件で、Siの場合には融点より1°Cから200°C低い温度条件で型押し成型した曲率分布結晶レンズであって、結晶格子面が、最大の曲率を示す方向を[001]または[1-10]方向から(110)面内において30度以内とし、それに直交する方向を谷とする1次元円筒曲面または1次元対数曲面である。これにより、積分反射強度および半値幅を広い範囲で均一にすることができる。その結果、入射角範囲が広く、集光精度の高い曲率分布結晶レンズを実現することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)