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1. (WO2009028494) APPAREIL DE DÉTECTION DE POSITIONS, PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE POSITIONS, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/028494    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/065185
Date de publication : 05.03.2009 Date de dépôt international : 26.08.2008
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
INADA, Keiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHII, Mikihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOIKE, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : INADA, Keiji; (JP).
ISHII, Mikihiko; (JP).
KOIKE, Tetsuya; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-220552 28.08.2007 JP
Titre (EN) POSITION DETECTING APPARATUS, POSITION DETECTING METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE DÉTECTION DE POSITIONS, PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE POSITIONS, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、およびデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A position detecting apparatus (11) is provided with a light source (21) for supplying detection light; a light collecting optical system (23) for collecting detection light to a diffracted light generating section (PH) arranged on a material (M); light guiding optical systems (22, 25) for guiding diffracted measuring light, which is generated at the diffracted light generating section by receiving the detection light, and reference light, which is generated from a reference surface (24) by receiving the detection light, to a prescribed position; and a photodetector (26) arranged at a prescribed position for detecting interference fringes of the diffracted measuring light and the reference light. Three-dimensional positional information of, for instance, a mask pattern surface and exposure surface of a photosensitive substrate, can be highly accurately detected by the relatively simple constitution.
(FR)La présente invention concerne un appareil de détection de positions (11) qui comprend une source lumineuse (21) pour fournir une lumière de détection ; un système optique de collecte de lumière (23) pour collecter la lumière de détection vers une section de génération de lumière diffractée (PH) agencée sur un matériau (M) ; des systèmes optiques de guidage de lumière (22, 25) pour guider une lumière de mesure diffractée, qui est générée dans la section de génération de lumière diffractée par la réception de la lumière de détection, et une lumière de référence, qui est générée à partir d'une surface de référence (24) par la réception de la lumière de détection, vers une position prescrite ; et un photo-détecteur (26) agencé dans une position prescrite pour détecter des franges d'interférence de la lumière de mesure diffractée et de la lumière de référence. Des informations de position tridimensionnelles de, par exemple, une surface de motif de masque et une surface d'exposition d'un substrat photosensible, peuvent être détectées de façon très précise grâce à une construction relativement simple.
(JA) 位置検出装置(11)は、検出光を供給する光源(21)と、物体(M)に設けられた回折光発生部(PH)に検出光を集光させる集光光学系(23)と、検出光を受けて回折光発生部から発生する回折測定光および検出光を受けて参照面(24)から発生する参照光を所定位置へ導く導光光学系(22,25)と、所定位置に配置されて回折測定光と参照光との干渉縞を検出する光検出器(26)とを備えている。比較的簡素な構成にしたがって、例えばマスクのパターン面または感光性基板の露光面の三次元的な位置情報を高精度で検出することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)