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1. (WO2008131422) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES PERMETTANT DE CRÉER OU DE RÉALISER UNE STRATÉGIE D'ÉCHANTILLONNAGE DYNAMIQUE DESTINÉE À UN PROCÉDÉ AU COURS DUQUEL DES MESURES SONT RÉALISÉES SUR DES TRANCHES DE SEMI-CONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/131422    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/061299
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 23.04.2008
CIB :
G05B 23/02 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US) (Tous Sauf US).
IZIKSON, Pavel [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
ROBINSON, John [US/US]; (US) (US Seulement).
ADEL, Mike [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
WIDMANN, Amir [IL/US]; (US) (US Seulement).
DONGSUB, Choi [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
MARCHELLI, Anat [US/US]; (IL) (US Seulement)
Inventeurs : IZIKSON, Pavel; (IL).
ROBINSON, John; (US).
ADEL, Mike; (IL).
WIDMANN, Amir; (US).
DONGSUB, Choi; (KR).
MARCHELLI, Anat; (IL)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; Legal Department KLA-Tencor Corporation One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
60/913,435 23.04.2007 US
12/107,346 22.04.2008 US
Titre (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR CREATING OR PERFORMING A DYNAMIC SAMPLING SCHEME FOR A PROCESS DURING WHICH MEASUREMENTS ARE PERFORMED ON WAFERS
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES PERMETTANT DE CRÉER OU DE RÉALISER UNE STRATÉGIE D'ÉCHANTILLONNAGE DYNAMIQUE DESTINÉE À UN PROCÉDÉ AU COURS DUQUEL DES MESURES SONT RÉALISÉES SUR DES TRANCHES DE SEMI-CONDUCTEUR
Abrégé : front page image
(EN)Various methods and systems for creating or performing a dynamic sampling scheme for a process during which measurements are performed on wafers are provided. One method for creating a dynamic sampling scheme for a process during which measurements are performed on wafers includes performing the measurements on all of the wafers in at least one lot at all measurement spots on the wafers. The method also includes determining an optimal sampling scheme, an enhanced sampling scheme, a reduced sampling scheme, and thresholds for the dynamic sampling scheme for the process based on results of the measurements. The thresholds correspond to values of the measurements at which the optimal sampling scheme, the enhanced sampling scheme, and the reduced sampling scheme are to be used for the process.
(FR)L'invention se rapporte à divers procédés et systèmes permettant de créer ou de réaliser une stratégie d'échantillonnage dynamique destinée à un procédé au cours duquel des mesures sont réalisées sur des tranches de semi-conducteur. Un procédé permettant de créer une stratégie d'échantillonnage dynamique destinée à un procédé au cours duquel des mesures sont réalisées sur des tranches de semi-conducteur inclut de faire les mesures sur toutes les tranches de semi-conducteur sur au moins une partie de tous les endroits de mesure. Le procédé inclut également de déterminer une stratégie d'échantillonnage optimale, une stratégie d'échantillonnage améliorée, une stratégie d'échantillonnage réduite, et des seuils pour la stratégie d'échantillonnage pour le procédé sur la base des résultats des mesures. Les seuils correspondent aux valeurs des mesures auxquelles la stratégie d'échantillonnage optimale, la stratégie d'échantillonnage améliorée et la stratégie d'échantillonnage réduite doivent être utilisées pour le procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)