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1. (WO2008131032) PROCÉDÉS DE FABRICATION D'UN TAMPON, PROCÉDÉS DE CRÉATION DE MOTIF SUR UN SUBSTRAT, ET TAMPON ET SYSTÈME DE CRÉATION DE MOTIF POUR CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/131032    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/060520
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 16.04.2008
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : MICRON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; Mail Stop 525, 8000 South Federal Way, Boise, ID 83707-0006 (US) (Tous Sauf US).
MILLWARD, Dan, B. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MILLWARD, Dan, B.; (US)
Mandataire : HARRACH, Tracey; Traskbritt, 230 South 500 East, Suite 300, P.O. Box 2550, Salt Lake City, UT 84110-2550 (US)
Données relatives à la priorité :
11/787,928 18.04.2007 US
Titre (EN) METHODS OF FORMING A STAMP, METHODS OF PATTERNING A SUBSTRATE, AND A STAMP AND A PATTERNING SYSTEM FOR SAME
(FR) PROCÉDÉS DE FABRICATION D'UN TAMPON, PROCÉDÉS DE CRÉATION DE MOTIF SUR UN SUBSTRAT, ET TAMPON ET SYSTÈME DE CRÉATION DE MOTIF POUR CELUI-CI
Abrégé : front page image
(EN)A method of patterning a substrate is disclosed. An ink material is chemisorbed to at least one region of a stamp and the chemisorbed ink material is transferred to a receptor substrate. The ink material has greater chemical affinity for the receptor substrate than for the at least one region of the stamp. A method of forming the stamp is also disclosed, as are the stamp and a patterning system.
(FR)L'invention concerne un procédé pour créer des motifs sur un substrat. Un matériau d'encre est absorbé chimiquement sur au moins une zone de tampon, et le matériau d'encre absorbé chimiquement est transféré vers un substrat récepteur. Le matériau d'encre possède une affinité chimique supérieure pour le substrat récepteur que pour la zone du tampon. Un procédé de fabrication du tampon est également décrit, ainsi que le tampon et le système de création de motif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)