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1. (WO2008130975) QUARTZ AMÉLIORÉ EN RÉSISTANCE À L'ÉROSION UTILISÉ DANS UNE CHAMBRE DE GRAVURE PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/130975    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/060436
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 16.04.2008
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
YUAN, Jie [US/US]; (US) (US Seulement).
SUN, Jennifer Y. [US/US]; (US) (US Seulement).
DUAN, Renguan [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : YUAN, Jie; (US).
SUN, Jennifer Y.; (US).
DUAN, Renguan; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P., 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500, Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
11/738,030 20.04.2007 US
Titre (EN) EROSION RESISTANCE ENHANCED QUARTZ USED IN PLASMA ETCH CHAMBER
(FR) QUARTZ AMÉLIORÉ EN RÉSISTANCE À L'ÉROSION UTILISÉ DANS UNE CHAMBRE DE GRAVURE PAR PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A method of fabricating doped quartz component is provided herein. In one embodiment, the doped quartz component is a yttrium doped quartz ring configured to support a substrate. In another embodiment, the doped quartz component is a yttrium and aluminum doped cover ring. In yet another embodiment, the doped quartz component is a yttrium, aluminum and nitrogen containing cover ring.
(FR)L'invention propose un procédé de fabrication d'un composant de quartz dopé. Selon un mode de réalisation, le composant de quartz dopé est un anneau de quartz dopé à l'yttrium configuré pour porter un substrat. Selon un autre mode de réalisation, le composant de quartz dopé est un anneau de couverture dopé à l'yttrium et à l'aluminium. Dans encore un autre un mode de réalisation, le composant de quartz dopé est un anneau de couverture contenant de l'yttrium, de l'aluminium et de l'azote.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)