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1. (WO2008130507) SOURCE DE PLASMA AVEC CATHODE DE TYPE MAGNÉTRON SEGMENTÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/130507    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/004605
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 10.04.2008
CIB :
H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : ZOND, INC. [US/US]; 137A High Street, Mansfield, Massachusetts 02048 (US) (Tous Sauf US).
CHISTYAKOV, Roman [US/US]; (US) (US Seulement).
ABRAHAM, Bassam Hanna [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHISTYAKOV, Roman; (US).
ABRAHAM, Bassam Hanna; (US)
Mandataire : RAUSCHENBACH, Kurt; P.O. Box 387, Bedford, Massachusetts 01730 (US)
Données relatives à la priorité :
11/735,452 14.04.2007 US
Titre (EN) PLASMA SOURCE WITH SEGMENTED MAGNETRON CATHODE
(FR) SOURCE DE PLASMA AVEC CATHODE DE TYPE MAGNÉTRON SEGMENTÉE
Abrégé : front page image
(EN)A sputtering apparatus includes a chamber, an anode, a cathode assembly comprising target material, and a magnet. A platen supports a substrate. A power supply is electrically connected to the cathode assembly and generates a plurality of voltage pulse trains comprising at least a first and a second voltage pulse train. The first voltage pulse train generates a first discharge that causes sputtering of a first layer of target material having properties that are determined by at least one of a peak amplitude, a rise time, and a duration of pulses in the first voltage pulse train. The second voltage pulse train generates a second discharge from the feed gas that causes sputtering of a second layer of target material having properties that are determined by at least one of a peak amplitude, a rise time, and a duration of pulses in the second voltage pulse train.
(FR)Un appareil de pulvérisation cathodique comprend une chambre, une anode, un ensemble de cathode comprenant un matériau cible et un aimant. Une platine supporte un substrat. Une alimentation électrique est connectée électriquement à l'ensemble de cathode et génère une pluralité de trains d'impulsions de tension comprenant au moins des premier et second trains d'impulsions de tension. Le premier train d'impulsions de tension génère une première décharge qui provoque une pulvérisation cathodique d'une première couche de matériau cible ayant des propriétés qui sont déterminées par au moins l'un d'une amplitude de crête, d'un temps de montée et d'une durée des impulsions dans le premier train d'impulsions de tension. Le second train des impulsions de tension génère une seconde décharge à partir du gaz d'alimentation qui provoque une pulvérisation cathodique d'une seconde couche de matériau cible ayant des propriétés qui sont déterminées par au moins l'un d'une amplitude de crête, d'un temps de montée et d'une durée des impulsions dans le second train d'impulsions de tension.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)