WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008130231) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/130231    N° de la demande internationale :    PCT/NL2008/050225
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 18.04.2008
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
BANINE, Vadim Yevgenyevich [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BLEEKER, Arno Jan [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MOORS, Johannes Hubertus Josephina [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BANINE, Vadim Yevgenyevich; (NL).
BLEEKER, Arno Jan; (NL).
MOORS, Johannes Hubertus Josephina; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Petrus, Johannes, Waltherus; ASML Corporate Intellectual Property, P.O. Box 324, NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
11/785,745 19.04.2007 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus for maskless EUV applications includes an illumination system constructed and arranged to condition a radiation beam and to supply the conditioned radiation beam to a spatial light modulator, a substrate table constructed and arranged to hold a substrate, and a projection system constructed and arranged to project the conditioned radiation beam onto a target portion of the substrate. The illumination system includes a field facet mirror constructed and arranged to define a field of the conditioned radiation beam. The field facet mirror is constructed and arranged to optically match a source of radiation and the illumination system.
(FR)La présente invention concerne un appareil lithographique pour des applications EUV sans masque. L'appareil lithographique comprend un système d'éclairement construit et arrangé pour conditionner un faisceau de radiation et pour transmettre le faisceau de radiation conditionné à un modulateur de lumière spatial, une table de substrat construite et arrangée pour conserver un substrat, et un système de projection construit et arrangé pour projeter le faisceau de radiation conditionné sur une partie cible du substrat. Le système d'éclairement comprend un miroir à facettes de champ construit et arrangé pour définir un champ du faisceau de radiation conditionné. Le miroir à facettes de champ est construit et arrangé pour faire correspondre optiquement une source de radiation et le système d'éclairement
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)