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1. (WO2008129996) COMPOSITION CONTRE LA MALADIE ATOPIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/129996    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/057417
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 16.04.2008
CIB :
A61K 36/06 (2006.01), A61P 37/08 (2006.01)
Déposants : MYCOLOGY TECHNO. CORP. [JP/JP]; 4-3-20, Bandai, Niigata-shi, Niigata 9500088 (JP) (Tous Sauf US).
NOMOTO, Kikuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Tetsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NOMOTO, Kikuo; (JP).
WATANABE, Tetsuo; (JP)
Mandataire : KURIHARA, Hiroyuki; KURIHARA INTERNATIONAL PATENT OFFICE Iwasaki Bldg. 6F, 3-15 Hiroo 1-chome Shibuya-ku, Tokyo 1500012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-109449 18.04.2007 JP
Titre (EN) COMPOSITION AGAINST ATOPIC DISEASE
(FR) COMPOSITION CONTRE LA MALADIE ATOPIQUE
(JA) 抗アトピー性疾患組成物
Abrégé : front page image
(EN)It is intended to provide a composition against an atopic disease which has an excellent effect as a remedy or preventive for the atopic disease. This composition contains, as the active ingredient, a mycelial mass obtained by culturing Basidiomycetes-X FERM BP-10011 or an extract composition of the same.
(FR)La présente invention porte sur une composition contre la maladie atopique présentant un effet excellent en tant que médicament ou agent préventif dans le cas de maladie atopique. Cette composition contient, en tant qu'ingrédient actif, une masse de mycélium obtenue par culture de Basidiomycetes-X FERM BP-10011 ou une composition formée d'extrait du même.
(JA)アトピー性疾患の治療剤又は予防剤として優れた効果を有する抗アトピー性疾患組成物を提供する。バシディオマイセテスX(Basidiomycetes-X)FERM BP-10011を培養した菌糸塊又はその抽出組成物を有効成分として含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)