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1. (WO2008129911) DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE, SYSTÈME DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/129911    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/054625
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 13.03.2008
CIB :
H05K 3/06 (2006.01), G03G 15/10 (2006.01), G03G 15/16 (2006.01), G03G 15/22 (2006.01)
Déposants : DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-cho 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUI, Tamio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOIKE, Masaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUI, Tamio; (JP).
AOIKE, Masaaki; (JP)
Mandataire : MATSUSAKA, Masahiro; Nagahori-Yachiyo Bldg. 6F, 11-9, Minamisemba 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420081 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-109017 18.04.2007 JP
2007-109018 18.04.2007 JP
Titre (EN) IMAGE FORMATION DEVICE, IMAGE FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION SYSTEM, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE, SYSTÈME DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 画像形成装置、画像形成方法、パターン形成システムおよびパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A pattern formation system includes an image formation device (1) which transfers to an object (9), a toner image formed on an outer circumferential surface of a photoconductor drum (31) by wet toner having etching resistance, by using electrostatic transfer performed by applying a transfer voltage between the photoconductor drum (31) and a transferred surface (91) of the object (9), and fixes the transferred toner image onto the object (9) so as to form a resist pattern. Thus, it is possible to surely prevent disturbance or destruction of the toner image upon transfer and form the toner image to be used as a resist pattern on the object (9) with a high accuracy. Moreover, it is possible to reduce the cost required for formation of the resist pattern as well as the time required for formation of the resist pattern.
(FR)La présente invention concerne un système de formation de motif qui comprend un dispositif de formation d'image (1) qui réalise un transfert sur un objet (9), une image de toner formée sur une surface circonférentielle extérieure d'un tambour photoconducteur (31) par toner en phase humique qui possède une réserve de gravure, en utilisant un transfert électrostatique réalisé en appliquant une tension de transfert entre le tambour photoconducteur (31) et une surface transférée (91) de l'objet (9), et fixe l'image de toner transférée sur l'objet (9) afin de former un motif de réserve. Ainsi, il est possible d'empêcher de façon sûre le dérangement ou la destruction de l'image de toner lors du transfert et former l'image de toner destinée à être utilisée en tant que motif de réserve sur l'objet (9) avec une haute précision. En outre, il est possible de réduire le coût nécessaire pour la formation du motif de réserve ainsi que le temps nécessaire pour la formation du motif de réserve.
(JA) パターン形成システムの画像形成装置(1)では、エッチング耐性を有する湿式トナーにより感光ドラム(31)の外周面上に形成されたトナー画像を、感光ドラム(31)と対象物(9)の被転写面(91)との間に転写電圧を作用させて行う静電転写により対象物(9)に転写し、転写されたトナー画像を対象物(9)上に定着させることによりレジストパターンが形成される。これにより、転写時にトナー画像が乱れたり崩れることを確実に防止することができ、レジストパターンとして利用されるトナー画像を対象物(9)上に高精度に形成することができる。また、レジストパターンの形成に係るコストを低減することができるとともにレジストパターンの形成に要する時間を短縮することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)