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1. (WO2008129762) APPAREIL À CORPS MOBILE, APPAREIL DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'APPAREIL À CORPS MOBILE, ET PROCÉDÉ D'ENTRAÎNEMENT DE CORPS MOBILE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/129762    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/000437
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 04.03.2008
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B23Q 1/62 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G12B 5/00 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
AOKI, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIRASU, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUDO, Yoshihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : AOKI, Yasuo; (JP).
SHIRASU, Hiroshi; (JP).
KUDO, Yoshihiko; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg, 1-53-9 Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-054442 05.03.2007 JP
Titre (EN) MOVING BODY APPARATUS, APPARATUS FOR FORMING PATTERN, METHOD OF FORMING PATTERN, METHOD OF PRODUCING DEVICE, METHOD OF PRODUCING MOVING BODY APPARATUS, AND METHOD OF DRIVING MOVING BODY
(FR) APPAREIL À CORPS MOBILE, APPAREIL DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'APPAREIL À CORPS MOBILE, ET PROCÉDÉ D'ENTRAÎNEMENT DE CORPS MOBILE
(JA) 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法
Abrégé : front page image
(EN)A substrate stage (21) and a weight cancel mechanism (27) for supporting the own weight of the substrate stage (21) are constructed as separate bodies. This enables a substrate stage (structure including the substrate stage) to be made smaller and lighter than in the case where the substrate stage and the weight cancel mechanism are unitized. Further, when an X rough movement stage (23X) and a Y rough movement stage (23Y) are moved by an X drive mechanism (97X) and a Y drive mechanism (97Y), the substrate stage is driven in an XY plane and the cancel mechanism for supporting the own weight of the substrate stage is also driven. Although the substrate stage and the weight cancel mechanism are constructed as separate bodies, the substrate stage can be driven without problems.
(FR)Un étage de substrat (21) et un mécanisme d'annulation de poids (27) pour supporter le propre poids de l'étage de substrat (21) sont construits en tant que corps séparés. Ceci permet à un étage de substrat (structure comprenant l'étage de substrat) d'être rendu plus petit et plus léger que dans le cas où l'étage de substrat et le mécanisme d'annulation de poids sont rendus unitaires. En outre, lorsqu'un étage de mouvement brutal X (23X) et un étage de mouvement brutal Y (23Y) sont déplacés par un mécanisme d'entraînement X (97X) et un mécanisme d'entraînement Y (97Y), l'étage de substrat est entraîné dans un plan XY et le mécanisme d'annulation pour supporter le propre poids de l'étage de substrat est également entraîné. Bien que l'étage de substrat et le mécanisme d'annulation de poids sont construits en tant que corps séparés, l'étage de substrat peut être entraîné sans problème.
(JA) 基板ステージ(21)と、基板ステージ(21)の自重を支持する自重キャンセル機構(27)とを別体で構成する。これにより、基板ステージと自重キャンセル機構とを一体的に構成する場合と比べて基板ステージ(基板ステージを含む構造体)を小型・軽量化することができる。また、X駆動機構(97X),Y駆動機構(97Y)によるX粗動ステージ(23X)、Y粗動ステージ(23Y)の移動により、基板ステージがXY平面内で駆動されるとともに、基板ステージの自重を支持する自重キャンセル機構も駆動される。これにより、基板ステージと自重キャンセル機構とを別体で構成しても支障なく、基板ステージを駆動できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)