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1. (WO2008129726) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM OPTIQUE, FILM OPTIQUE, PLAQUE DE POLARISATION ET ÉCRAN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/129726    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/073779
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 10.12.2007
CIB :
B29C 41/24 (2006.01), B29C 41/34 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), B29L 7/00 (2006.01), B29L 11/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
KANEKO, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KANEKO, Tadahiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-095827 31.03.2007 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM, OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE AND DISPLAY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM OPTIQUE, FILM OPTIQUE, PLAQUE DE POLARISATION ET ÉCRAN
(JA) 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及び表示装置
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing an optical film by a solution spreading film deposition method, in which a poor stripping region of a metal support can be eliminated by spreading dope on the surface of the metal support after a surface treatment film is formed on the surface of the metal support by atmospheric pressure plasma processing or excimer UV processing. Consequently, limitation on the conditions of film production is reduced and productivity is enhanced. Furthermore, since stripping of the film is enhanced, lateral variation in stripping position is reduced and variation in retardation value is reduced sharply, and thereby an optical film having optical characteristics excellent in transparency and planarity can be produced. Consequently, a method for producing an optical film, an optical film, a polarizing plate and a display which can meet the demands of a high quality thin and wide protective film for polarizing plate can be provided.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un film optique par un procédé de dépôt d'un film par application d'une solution, selon lequel une région de faible démétallisation d'un support métallique peut être supprimée en appliquant une dope sur la surface du support métallique après qu'un film de traitement de surface soit formé sur la surface du support métallique par un traitement plasmatique à pression atmosphérique ou par traitement UV d'excimère. Par conséquent, on réduit la limitation sur les états de fabrication de film et la productivité est améliorée. En outre, puisque la démétallisation du film est améliorée, la variation latérale de la position de démétallisation est réduite et la variation de la valeur de ralentissement est nettement réduite et, de ce fait, on peut produire un film optique ayant d'excellentes caractéristiques optiques de transparence et de planarité. Par conséquent, on peut proposer un procédé de fabrication d'un film optique, un film optique, une plaque de polarisation et un écran qui satisfont les demandes d'un film protecteur mince et large de grande qualité pour une plaque de polarisation.
(JA) 溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法において、金属支持体の表面に大気圧プラズマ処理またはエキシマUV処理により表面処理膜を形成した後に、金属支持体表面にドープを流延することで、金属支持体の剥離性不良領域を解消することができる。これにより、フィルム生産条件の制約が減り、生産性が向上する。さらに、フィルムの剥離性が向上することで、剥離位置の幅手方向の変動が減少するとともに、リタデーション値のばらつきが大幅に低減するので、透明性、平面性に優れた光学特性を有する光学フィルムを製造することができる。これにより、偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化及び高品質化の要求に応えることができる光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及び表示装置を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)