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1. (WO2008129615) DISPOSITIF DE CONTRÔLE DE MATRICE DE TRANSISTORS EN COUCHES MINCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/129615    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/057809
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 09.04.2007
CIB :
G01R 31/00 (2006.01)
Déposants : SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-Kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi Kyoto 6048511 (JP) (Tous Sauf US).
OKAMOTO, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKAMOTO, Hideki; (JP)
Mandataire : SHIONOIRI, Akio; Fujisawa-Central Bldg. 6F 1-4, Kugenuma-Tachibana 1-chome Fujisawa-shi, Kanagawa 2510024 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) TFT ARRAY INSPECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CONTRÔLE DE MATRICE DE TRANSISTORS EN COUCHES MINCES
(JA) TFTアレイ検査装置
Abrégé : front page image
(EN)A TFT array inspection device has electron gun units (3) at the top of a main chamber (1) and includes a glass substrate stage (2) within the main chamber (1). This glass substrate stage (2) is provided with a Z-stage (2d) which can be driven in a Z-direction in a position below the electron gun units (3). This leads to a reduction in the size of the main chamber. A glass substrate (10) is movable in the Z-direction within the main chamber (1). Therefore regardless of the positions within the main chamber (1) at which the electron gun units (3) are placed, contact between the glass substrate (10) and a prober frame (6) is performed without interference with the electron gun units (3).
(FR)L'invention concerne un dispositif de contrôle de matrice de transistors en couches minces comportant des unités de canon à électrons (3) dans la partie supérieure d'une chambre principale (1) et comprenant un étage à substrat de verre (2) à l'intérieur de la chambre principale (1). Cet étage à substrat de verre (2) est pourvu d'un étage Z (2d) qui peut être entraîné dans une direction Z dans une position située en dessous des unités de canon à électrons (3). Ce système permet de réduire les dimensions de la chambre principale. Un substrat de verre (10) peut être déplacé dans la direction Z à l'intérieur de la chambre principale (1). Ainsi, quelle que soit la position occupée par les unités de canon à électrons (3) à l'intérieur de la chambre principale (1), le contact entre le substrat de verre (10) et un cadre sondeur (6) se fait sans gêner les unités de canon à électrons (3).
(JA)TFTアレイ検査装置は、メインチャンバ1の上方に電子銃ユニット3を有すると共にメインチャンバ1内にガラス基板用ステージ2を備え、このガラス基板用ステージ2に、電子銃ユニット3の下方位置においてZ方向に駆動可能なZステージ2dを設ける。これにより、メインチャンバを小型化する。メインチャンバ1内において、ガラス基板10をZ方向に移動可能とすることによって、電子銃ユニット3がメインチャンバ1内の何れの位置に設置されているかに係わらず、ガラス基板10とプローバフレーム6との接触を、電子銃ユニット3と干渉することなく行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)