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1. (WO2008128392) MASQUE COMPOSITE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/128392    N° de la demande internationale :    PCT/CN2007/002621
Date de publication : 30.10.2008 Date de dépôt international : 31.08.2007
CIB :
A62B 23/06 (2006.01)
Déposants : LIN, Jingjyr [CN/CN]; (CN)
Inventeurs : LIN, Jingjyr; (CN)
Mandataire : BEIJING ZHONGYUAN HUAHE INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO., LTD.; Room 909, Huibin Building No.8 Beichendong Street Chaoyang District Beijing 100101 (CN)
Données relatives à la priorité :
200710090289.0 18.04.2007 CN
Titre (EN) COMPOSITE MASK
(FR) MASQUE COMPOSITE
(ZH) 复合式口罩
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a composite mask, which comprises a first casing, at lease a first filter medium layer and a second filter medium, in which the first filter medium is set outside the first casing, the first casing is set outside the second filter medium layer, and an accommodation groove is set outside the first casing to accommodate the first filter medium layer. The filtering area of the first filter medium layer is smaller than the second filter medium, the pore diameter of the first filter medium layer is larger than the second filter medium, so the second filter medium layer can filter the gas that can not be filtered by the first filter medium layer. Once the first filter medium layer can not be used to filter the gas, another first filter medium layer can replace it to continue filtering the gas. In addition, the material of the first filter medium layer can be changed according to the circumstance, for example, the material filtering the excessive acid gas is used in the free-dust rooms used to produce the semiconductor, and the material restraining the bacteriums or eliminating the bacteriums is used in the hospital.
(FR)Cette invention concerne un masque composite comprenant une première enveloppe, au moins une première couche d'un milieu filtrant et une seconde couche de milieu filtrant, le premier milieu filtrant étant ménagé à l'extérieur de la première enveloppe laquelle, à son tour, est ménagée à l'extérieur de la seconde couche de milieu filtrant, et une encoche de réception est ménagée à l'extérieur de la première enveloppe pour recevoir la première couche de milieu filtrant. La zone de filtrage de la première couche de milieu filtrant est plus petite que le second milieu filtrant, le diamètre des pores de la première couche de milieu filtrant est plus grand que le second milieu filtrant, ainsi, la seconde couche de milieu filtrant peut filtrer le gaz qui ne peut être filtré par la première couche de milieu filtrant. Une fois utilisée, la première couche de milieu filtrant ne peut être réutilisée pour filtrer les gaz, une autre première couche de milieu filtrant peut alors la remplacer pour poursuivre le filtrage des gaz. En outre, le matériau constituant la première couche de milieu filtrant peut être modifié en fonction des circonstances, par exemple, le matériau filtrant le surplus de gaz acides est utilisé dans des pièces exemptes de poussières servant à la production de semi-conducteurs, et le matériau qui retient les bactéries ou les élimine est utilisé en milieu hospitalier.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)