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1. (WO2008127807) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE TEXTURATION LASER DE SURFACES DE MATÉRIAUX ET APPLICATIONS DE CES DERNIERS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/127807    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/056033
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 06.03.2008
CIB :
H01L 21/20 (2006.01), C30B 23/00 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION [US/US]; 250 West Main Street, Suite 300 Charlottesville, VA 22902 (US) (Tous Sauf US).
GUPTA, Mool, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
NAYAK, Barada, K. [IN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GUPTA, Mool, C.; (US).
NAYAK, Barada, K.; (US)
Mandataire : DECKER, Robert, J.; University of Virginia Patent Foundtion 250 West Main Street, Suite 300 Charlottesville, VA 22902 (US)
Données relatives à la priorité :
60/905,808 09.03.2007 US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS OF LASER TEXTURING OF MATERIAL SURFACES AND THEIR APPLICATIONS
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE TEXTURATION LASER DE SURFACES DE MATÉRIAUX ET APPLICATIONS DE CES DERNIERS
Abrégé : front page image
(EN)The surface of a material is textured and by exposing the surface to pulses from an ultrafast laser. The laser treatment causes pillars to form on the treated surface. These pillars provide for greater light absorption. Texturing and crystallization can be carried out as a single step process. The crystallization of the material provides for higher electric conductivity and changes in optical and electronic properties of the material. The method may be performed in vacuum or a gaseous environment. The gaseous environment may aid in texturing and/or modifying physical and chemical properties of the surfaces. This method may be used on various material surfaces, such as semiconductors, metals and their alloys, ceramics, polymers, glasses, composites, as well as crystalline, nanocrystalline, polycrystalline, microcrystalline, and amorphous phases.
(FR)Dans la présente invention la surface d'un matériau est texturée par une exposition de ladite surface à des impulsions d'un laser ultrarapide. Le traitement laser provoque la formation de colonnes sur la surface traitée. Les colonnes assurent une meilleure absorption de la lumière. La texturation et la cristallisation peuvent être effectuées en une seule étape. La cristallisation du matériau assure une meilleure conductivité thermique et produit des changements des propriétés optiques et électroniques du matériau. Le procédé peut être mis en oeuvre dans un environnement de vide ou dans un environnement gazeux. L'environnement gazeux peut favoriser la texturation et/ou modifier les propriétés physiques et chimiques des surfaces. Ce procédé peut être employé sur des surfaces de divers matériaux tels que des semi-conducteurs, des métaux et leurs alliages, des céramiques, des polymères, des verres, des composites ainsi que sur des phases cristalline, nanocristalline, polycristalline, microcristalline et amorphe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)