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1. (WO2008127776) PROCÉDÉ POUR DÉTERMINER LES PROFILS THERMIQUES DE CIRCUITS NANOMÉTRIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/127776    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/053957
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 14.02.2008
CIB :
G01K 11/00 (2006.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, 12th Floor, Oakland, CA 94607-5200 (US) (Tous Sauf US).
ZETTL, Alexander, K. [US/US]; (US) (US Seulement).
BEGTRUP, Gavi, Elan [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ZETTL, Alexander, K.; (US).
BEGTRUP, Gavi, Elan; (US)
Mandataire : CARON, R'sue, P.; Ernest Orlando Lawrence Berkeley National Laboratory Technology Transfer and Intellectual Property Management (Patent Group), One Cyclotron Road, MS 90B-0104, Berkely, CA 94720 (US)
Données relatives à la priorité :
60/889,906 14.02.2007 US
Titre (EN) A METHOD TO DETERMINE THERMAL PROFILES OF NANOSCALE CIRCUITRY
(FR) PROCÉDÉ POUR DÉTERMINER LES PROFILS THERMIQUES DE CIRCUITS NANOMÉTRIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A platform that can measure the thermal profiles of devices with nanoscale resolution has been developed. The system measures the local temperature by using an array of nanoscale thermometers. This process can be observed in real time using a high resolution imagining technique such as electron microscopy. The platform can operate at extremely high temperatures.
(FR)L'invention concerne le développement d'une plateforme capable de mesurer les profils thermiques de dispositifs ayant une résolution nanométrique. Le système mesure la température locale en utilisant un réseau de thermomètres nanométriques. Ce procédé peut être observé en temps réel à l'aide d'une technique de formation d'image haute résolution telle qu'une microscopie électronique. La plateforme peut fonctionner à des températures extrêmement élevées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)