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1. (WO2008127341) SYSTÈME ET PROCÉDÉ UTILISÉS POUR CONTRÔLER LE POINT D'ACHÈVEMENT D'UN PROCESSUS UTILISANT UN SYSTÈME DE POINT D'ACHÈVEMENT EXISTANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/127341    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/066777
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 17.04.2007
CIB :
G01N 21/00 (2006.01)
Déposants : PIVOTAL SYSTEMS CORPORATION [US/US]; 4637 Chabot Drive, Suite 300, Pleasanton, California 94588 (US) (Tous Sauf US).
CHUNG, Sherk [US/US]; (US) (US Seulement).
LOZIC, Tomislav [US/US]; (US) (US Seulement).
MONKOWSKI, Joseph, Raymond [US/US]; (US) (US Seulement).
WONG, Geoffrey, Rodney [CA/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHUNG, Sherk; (US).
LOZIC, Tomislav; (US).
MONKOWSKI, Joseph, Raymond; (US).
WONG, Geoffrey, Rodney; (US)
Mandataire : TOBIN, Kent, J.; Two Embarcadero Center, 8th Floor, San Francisco, California 94111-3834 (US)
Données relatives à la priorité :
11/787,654 16.04.2007 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING PROCESS END-POINT UTILIZING LEGACY END-POINT SYSTEM
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ UTILISÉS POUR CONTRÔLER LE POINT D'ACHÈVEMENT D'UN PROCESSUS UTILISANT UN SYSTÈME DE POINT D'ACHÈVEMENT EXISTANT
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments in accordance with the present invention allow a second end-point determination (EPD) system to actively control the end-pointing of a semiconductor process chamber, by leveraging a legacy EPD system that is already integrated with the chamber. In one embodiment, the second EPD system controls a shutter that regulates the amount of light transmitted between a plasma light source and an optical emission spectroscopy (OES) sensor of the legacy OES EPD system. In this embodiment, the legacy OES EPD system is pre-configured to call end-point when an artificial end-point condition occurs, i.e. the intensity of light falls below a pre-set threshold. When the second EPD system determines an actual end-point condition has been reached, it closes the shutter which, causes the light intensity being read by the OES sensor to fall below the pre-set threshold. This in turn triggers an end-point command to the chamber from the legacy OES EPD system.
(FR)Des modes de réalisation selon la présente invention proposent un second système de détermination du point d'achèvement (EPD) pour contrôler le point d'achèvement d'une chambre des procédés pour semi-conducteur, en s'appuyant sur un système EPD existant, déjà intégré dans la chambre. Dans un mode de réalisation, le second système EPD contrôle un obturateur qui régule la quantité de lumière transmise entre une source de lumière plasma et un spectroscope d'émission optique (OES), capteur du système OES EPD existant. Dans ce mode de réalisation, le système OES EPD existant est préconfiguré pour appeler le point d'achèvement lorsqu'une condition de point d'achèvement artificiel se présente, à savoir lorsque l'intensité de la lumière tombe sous un seuil prédéterminé. Lorsque le second système EPD détermine qu'une condition de point d'achèvement réel a été atteinte, il ferme l'obturateur, ce qui fait que l'intensité de la lumière lue par le capteur OES tombe en dessous du seuil prédéterminé. Ceci déclenche alors une commande de point d'achèvement à la chambre du système OES EPD existant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)