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1. (WO2008126926) PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126926    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/057221
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 07.04.2008
CIB :
G03F 9/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 23/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SHIRAISHI, Naomasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
INOUE, Hideya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIRAISHI, Naomasa; (JP).
INOUE, Hideya; (JP)
Mandataire : ONDA, Hironori; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu, 5008731 (JP)
Données relatives à la priorité :
60/907,595 10.04.2007 US
12/071,911 27.02.2008 US
Titre (EN) EXPOSURE METHOD AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An exposure method enabling deformation occurring in a unit exposure field (10f) to be measured rapidly and accurately and enabling a plurality of patterns to be superimposed on a substrate (W) with high accuracy. The exposure method of the present embodiment for exposing a bright-dark pattern on the substrate (W) using a projection optical system (PL) includes a position detection process (S13) for detecting the positions of a plurality of position detection marks, relative to a substrate-in-plane-direction of the substrate (W), arranged in at least one functional element in a unit exposure field (10f) of the substrate (W), a deformation calculation process (S14) for calculating the state of deformation occurring in the unit exposure field (10f ) based on information related to the positions of the position detection marks obtained in the position detection process (S13), and a shape modification process (S15) for modifying the shape of the bright-dark pattern to be exposed on the substrate (W) based on the deformation state obtained in the deformation calculation process (S14).
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition permettant de mesurer rapidement et précisément la déformation qui se produit dans un champ d'exposition d'unité (10f) et de superposer avec une grande précision une pluralité de motifs sur un substrat (W). Le procédé d'exposition destiné à exposer un motif clair/obscur sur le substrat (W) à l'aide d'un système optique de projection (PL) comprend : un processus de détection de position (S13) permettant de détecter les positions d'une pluralité de marques de détection de position par rapport à la direction dans le plan du substrat, les marques étant déposées sur un ou plusieurs éléments fonctionnels dans le champ d'exposition d'unité (10f) du substrat (W) ; un processus de calcul de déformation (S14) permettant de calculer l'étendue de la déformation qui se produit dans le champ d'exposition d'unité (10f) grâce aux informations liées aux positions des marques qui ont été obtenues au cours du processus de détection de position (S13) ; et un processus de modification de forme (S15) permettant de modifier la forme du motif clair/obscur qui doit être exposé sur le substrat (W) en fonction de l'étendue de la déformation qui a été obtenue au cours du processus de calcul de déformation (S14).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)