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1. (WO2008126925) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126925    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/057220
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 07.04.2008
CIB :
G03F 9/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 23/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
INOUE, Hideya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIRAISHI, Naomasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : INOUE, Hideya; (JP).
SHIRAISHI, Naomasa; (JP)
Mandataire : ONDA, Hironori; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu, 5008731 (JP)
Données relatives à la priorité :
60/907,596 10.04.2007 US
12/071,912 27.02.2008 US
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An exposure apparatus for exposing a bright-dark pattern on a substrate (W) via a projection optical system (PL) includes a position detection system (10) which detects a plurality of predetermined positions in a unit exposure field (10f ) of the substrate (10aa-10ea). A plurality of reference detection positions (W) fall within a range substantially equal to the unit exposure field (10f). A deformation calculation unit (11) calculates a state of deformation in the unit exposure field (10f) based on the detection result of the position detection system (10). A shape modification unit (12) modifies a shape of the bright-dark pattern to be exposed on the substrate (W) based on the deformation state calculated by the deformation calculation unit (11).
(FR)L'invention concerne un appareil d'exposition permettant d'exposer un motif clair-obscur sur un substrat (W) à l'aide d'un système optique de projection (PL). L'appareil d'exposition comprend un système de détection de position (10) qui détecte plusieurs positions prédéterminées dans un champ d'exposition unitaire (10f) du substrat (10aa à 10ea). Plusieurs positions de détection de référence (W) tombent dans une plage sensiblement égale au champ d'exposition unitaire (10f). Une unité de calcul de déformation (11) calcule un état de déformation dans le champ d'exposition unitaire (17) sur la base du résultat de la détection du système de détection de position (10). Une unité de modification de forme (12) modifie une forme du motif clair-sombre à exposer sur le substrat (W) sur la base de l'état de déformation calculé par l'unité de calcul de déformation (11).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)