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1. (WO2008126680) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF DE RÉSERVE, PRODUIT DISPOSÉ EN COUCHES ET DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126680    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055778
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 26.03.2008
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), C08G 59/40 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
SENZAKI, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMANOUCHI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YONEKURA, Junzo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHINBORI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAITO, Koji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SENZAKI, Takahiro; (JP).
YAMANOUCHI, Atsushi; (JP).
YONEKURA, Junzo; (JP).
SHINBORI, Hiroshi; (JP).
SAITO, Koji; (JP)
Mandataire : SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg., 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-099547 05.04.2007 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING RESIST PATTERN, LAYERED PRODUCT, AND DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF DE RÉSERVE, PRODUIT DISPOSÉ EN COUCHES ET DISPOSITIF
(JA) 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive resin composition which is highly safe, has high sensitivity, and can form a fine resist pattern having excellent chemical stability. The photosensitive resin composition comprises (a) a polyfunctional epoxy resin, (b) an initiator for cationic polymerization comprising an onium salt having an anion part of a specific structure, and (d) a sensitizer.
(FR)L'invention se rapporte à une composition de résine photosensible extrêmement sûre, très sensible, et qui peut donner un motif de réserve fin ayant une excellente stabilité chimique. Cette composition comprend : (a) une résine époxy polyfonctionnelle, (b) un initiateur de polymérisation cationique incluant un sel d'onium dont les anions ont une structure spécifique, et (d) un sensibilisateur.
(JA) 安全性が高い上に感度が高く、化学的安定性に優れていて微細なレジストパターンを形成することが可能な、感光性樹脂組成物を提供する。  (a)多官能エポキシ樹脂と、特定の構造を有するアニオン部を有するオニウム塩を含有する(b)カチオン重合開始剤、及び(d)増感剤を含有してなる感光性樹脂組成物によれば、安全性が高い上に感度が高く、化学的安定性に優れていて微細なレジストパターンを形成することが可能な、感光性樹脂組成物を提供できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)