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1. (WO2008126625) RÉSINE POUR LA FORMATION D'UN FILM ANTI-REFLET SUPÉRIEUR, COMPOSITION POUR FORMER UN FILM ANTI-REFLET SUPÉRIEUR, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF EN RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126625    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/054658
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 13.03.2008
CIB :
C08F 12/32 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JSR Corporation [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku Tokyo 1048410 (JP) (Tous Sauf US).
NATSUME, Norihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIE, Norihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI, Junichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NATSUME, Norihiro; (JP).
SUGIE, Norihiko; (JP).
TAKAHASHI, Junichi; (JP)
Mandataire : KOJIMA, Seiji; JINGUHIGASHI ATSUTA Bldg. 4F 8-20, Jingu 3-chome, Atsuta-ku Nagoya-shi, Aichi 4560031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-077689 23.03.2007 JP
2007-085726 28.03.2007 JP
Titre (EN) RESIN FOR FORMATION OF UPPER ANTIREFLECTIVE FILM, COMPOSITION FOR FORMATION OF UPPER ANTIREFLECTIVE FILM, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) RÉSINE POUR LA FORMATION D'UN FILM ANTI-REFLET SUPÉRIEUR, COMPOSITION POUR FORMER UN FILM ANTI-REFLET SUPÉRIEUR, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF EN RÉSINE
(JA) 上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are: a resin for forming an upper antireflective film which can reduce a standing wave effect satisfactorily and has excellent solubility in an alkaline developer in lithography; a composition for forming the upper antireflective film; and a method for forming a resist pattern. Specifically, the resin for forming an upper antireflective film has at least one unit selected from a repeating unit represented by the formula (1) and a repeating unit represented by the formula (2), has a weight average molecular weight of 1000 to 100000 as measured by GPC method, and is soluble in an alkaline developer. (1) (2) wherein R1 to R14 independently represent a hydrogen atom, -OH, -COOH or -SO3H, provided that all of R1 to R7 or R8 to R14 do not represent a hydrogen atom in a molecule.
(FR)La présente invention concerne une résine destinée à la formation d'un film anti-reflet supérieur qui peut réduire de manière satisfaisante un effet d'onde stationnaire et qui présente une excellente solubilité dans un révélateur alcalin en lithographie. L'invention concerne également une composition destinée à former le film anti-reflet supérieur ; et un procédé de formation d'un motif en résine. Spécifiquement, la résine destinée à la formation d'un film anti-reflet supérieur a au moins une unité choisie parmi une unité répétée représentée par la formule (1) et une unité répétée représentée par la formule (2), a un poids moléculaire moyen en poids de 1 000 à 100 000 tel que mesuré par un procédé de CPG, et est soluble dans un révélateur alcalin. (1) (2) R1 à R14 représentant indépendamment un atome d'hydrogène, -OH, -COOH ou -SO3H, à condition que tous les R1 à R7 ou R8 à R14 ne représentent pas un atome d'hydrogène dans une molécule.
(JA) 本発明の目的は、リソグラフィーにおいて、定在波効果を十分に低減することができ、且つアルカリ現像液に対する溶解性に優れた上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法を提供することである。本上層反射防止膜形成用樹脂は、下式(1)の繰り返し単位、及び下式(2)の繰り返し単位のうちの少なくとも一方を含み、GPC法により測定される重量平均分子量が1000~100000であり、且つアルカリ現像液に可溶なものである。  〔式中、R~R14は、それぞれ、水素原子、-OH、-COOH、又は-SOHであり、且つR~R若しくはR~R14の全てが水素原子になることはない。〕
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)