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1. (WO2008126606) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE OU D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION EN RELIEF DOTÉE D'UN MOTIF ÉVIDÉ ET EN SAILLIE, ET LIQUIDE DE TRAITEMENT DE SURFACE PLATE UTILISÉ DANS LE PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126606    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/054537
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 12.03.2008
CIB :
B41N 1/12 (2006.01), B41N 3/03 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
Déposants : Asahi Kasei E-materials Corporation [JP/JP]; 1-105 Kanda Jinbocho Chiyoda-ku, Tokyo 1018101 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAZAWA, Kazuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAZAWA, Kazuyoshi; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; TMI ASSOCIATES 23rd Floor Roppongi Hills Mori Tower 6-10-1, Roppongi, Minato-ku Tokyo 1066123 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-073249 20.03.2007 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE RESIN PLATE OR RELIEF PRINTING PLATE HAVING RECESSED AND PROJECTED PATTERN, AND PLATE SURFACE TREATING LIQUID USED IN THE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE OU D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION EN RELIEF DOTÉE D'UN MOTIF ÉVIDÉ ET EN SAILLIE, ET LIQUIDE DE TRAITEMENT DE SURFACE PLATE UTILISÉ DANS LE PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 凹凸形状を持つ感光性樹脂版および凸版印刷版の製造方法、ならびに当該製造方法に用いる版面用処理液
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a photosensitive resin plate or relief printing plate having a recessed and projected pattern, which comprises a step for applying a liquid containing an ink-repellent component (A) and a curing component (B) onto a plate surface of a photosensitive resin plate or relief printing plate having a recessed and projected pattern before or during a post-treatment step. The ink-repellent component (A) contains at least one compound selected from the group consisting of silicon compounds, fluorine compounds and paraffin compounds. Also disclosed is a treatment liquid suitable for the method for producing a photosensitive resin plate or relief printing plate having a recessed and projected pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une plaque de résine photosensible ou d'une plaque d'impression en relief dotée d'un motif évidé et en saillie qui comprend une étape qui consiste à appliquer un liquide contenant un composant repoussant l'encre (A) et un composant durcissant (B) sur une surface de plaque d'une plaque de résine photosensible ou d'une plaque d'impression en relief dotée d'un motif évidé et en saillie avant ou pendant l'étape de post-traitement. Le composant repoussantl'encre (A) contient au moins un composé choisi parmi le groupe formé de composés de silicium, composés de fluor et composés de paraffine. L'invention décrit également un liquide de traitement approprié pour le procédé de fabrication d'une plaque de résine photosensible ou d'une plaque d'impression en relief dotée d'un motif évidé et en saillie.
(JA) 本発明によれば、後処理工程前又は後処理工程中に、凹凸形状のある感光性樹脂版または凸版印刷版の版面に、撥インキ成分(A)および硬化成分(B)を含有した液体を付着させる工程を含み、撥インキ成分(A)がシリコン系化合物、フッ素系化合物およびパラフィン系化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を含む、凹凸形状のある感光性樹脂版または凸版印刷版の製造方法及びそれに適した処理液が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)