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1. (WO2008126497) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DE LA MOUSSE DE POLYURÉTHANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126497    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/053602
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 29.02.2008
CIB :
B24B 37/20 (2012.01), B24B 37/24 (2012.01), C08J 9/30 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD. [JP/JP]; 17-18, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508661 (JP) (Tous Sauf US).
HIROSE, Junji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKUDA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
DOURA, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SATO, Akinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIROSE, Junji; (JP).
FUKUDA, Takeshi; (JP).
DOURA, Masato; (JP).
SATO, Akinori; (JP).
NAKAMURA, Kenji; (JP)
Mandataire : UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1 13-9, Nishinakajima 5-chome Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-081403 27.03.2007 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING POLYURETHANE FOAM
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DE LA MOUSSE DE POLYURÉTHANE
(JA) ポリウレタン発泡体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a polishing pad that has substantially spherical cells and excels in thickness accuracy. The process for producing a polishing pad comprises the steps of preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method; while delivering a face member A (9), continuously discharging the cell-dispersed urethane composition (11) through one spout onto the face member A at its approximately central area in the width direction thereof; superimposing a face member B (14) on the cell-dispersed urethane composition and thereafter uniformly adjusting the thickness of the cell-dispersed urethane composition by theuse of thickness adjusting means (15); without further loading, curing the cell-dispersed urethane composition having its thickness adjusted in the previous step to thereby obtain a polishing sheet consisting of polyurethane foam; and cutting the polishing sheet.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire un tampon de polissage qui a des cellules sensiblement sphériques et une excellente précision d'épaisseur. Le procédé pour produire un tampon de polissage comprend les étapes de préparation d'une composition d'uréthane à cellules dispersées par un procédé mécanique de formation de mousse ; tout en distribuant un élément de face A (9), en déchargeant en continu la composition d'uréthane à cellules dispersées (11) à travers une buse sur l'élément de face A au niveau de sa zone approximativement centrale dans la direction de largeur de celui-ci ; de superposition d'un élément de face B (14) sur la composition d'uréthane à cellules dispersées puis d'ajustement uniforme de l'épaisseur de la composition d'uréthane à cellules dispersées par l'utilisation d'un moyen d'ajustement d'épaisseur (15) ; sans autre chargement, de durcissement de la composition d'uréthane à cellules dispersées ayant son épaisseur ajustée dans l'étape précédente, pour obtenir ainsi une feuille de polissage consistant en de la mousse de polyuréthane ; et de découpe de la feuille de polissage.
(JA) 略球状の気泡を有し、厚み精度に優れる研磨パッドの製造方法を提供することを目的とする。本発明は、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、面材A(9)を送り出しつつ、該面材Aの幅方向の略中央部に気泡分散ウレタン組成物(11)を1つの吐出口から連続的に吐出する工程、該気泡分散ウレタン組成物上に面材B(14)を積層し、その後厚さ調整手段(15)により気泡分散ウレタン組成物の厚さを均一に調整する工程、前工程で厚さを調整した気泡分散ウレタン組成物に更なる荷重を加えずに硬化させることによりポリウレタン発泡体からなる研磨シートを形成する工程、及び研磨シートを裁断する工程を含む研磨パッドの製造方法、に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)