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1. (WO2008126316) SUPPORT À MOTIFS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/126316    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/057271
Date de publication : 23.10.2008 Date de dépôt international : 30.03.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.09.2008    
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/65 (2006.01)
Déposants : Pioneer Corporation [JP/JP]; 4-1, Meguro 1-chome, Meguro-ku Tokyo 1538654 (JP) (Tous Sauf US).
HOSODA, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASONO, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HOSODA, Yasuo; (JP).
KASONO, Osamu; (JP)
Mandataire : FUJIMURA, Motohiko; FUJIMURA PATENT BUREAU, Togeki-Bldg., 1-1, Tsukiji 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040045 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PATTERNED MEDIUM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) SUPPORT À MOTIFS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) パターンド媒体およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A drawing method for producing a patterned medium on which a dot pattern for achieving high record density and high S/N ratio of reproduction signal is formed. The drawing method comprises a step for fixing a base board onto a turntable, and a step for forming spot exposure regions periodically along each target line by forming the spots of a focusing energy beam periodically along each of a plurality of drawing target lines provided in the peripheral direction of the central axis of the turntable while rotary driving the turntable about the central axis. At every predetermined number of more than one target lines out of the plurality of target lines, spot exposure regions adjoining in a predetermined direction traversing the target lines overlap to form a composite exposure region.
(FR)L'invention concerne un procédé de traçage pour produire un support à motifs sur lequel est formé une formation de points qui permet d'obtenir une haute densité d'enregistrement et un rapport S/N élevé du signal de reproduction. Ce procédé de traçage comprend une étape qui consiste à fixer une plaque de base sur une table de lecture, et une étape pour former des régions d'exposition de point périodiquement le long de chaque ligne cible par formation des points d'un faisceau énergétique de focalisation périodiquement le long de chaque ligne cible faisant partie d'une pluralité de lignes cibles de traçage disposées dans le sens périphérique de l'axe central de la table de lecture tout en entraînant cette dernière de manière rotative autour de l'axe central. À un nombre prédéterminé supérieur à au moins une ligne cible parmi la pluralité de lignes cibles, des régions d'exposition de point adjacentes dans un sens prédéterminé traversant les lignes cibles se chevauchent pour former une région d'exposition composite.
(JA) 高記録密度および再生信号の高S/N比を実現し得るドットパターンが形成されたパターンド媒体を製造するための描画方法を提供する。この描画方法は、ベース基板をターンテーブル上に固定するステップと、ターンテーブルを中心軸周りに回転駆動しつつ、前記中心軸周りの方向に設けられた複数の描画用目標線の各々に沿って集束エネルギー線のスポットを前記レジスト膜に周期的に形成することにより前記各目標線に沿って周期的にスポット露光領域を形成するステップと、を備える。前記複数の目標線のうち2以上の所定数の目標線毎に、前記目標線を横断する所定方向に隣り合うスポット露光領域同士が重複して複合露光領域を形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)