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1. (WO2008123411) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/123411    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/056063
Date de publication : 16.10.2008 Date de dépôt international : 28.03.2008
CIB :
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/505 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01Q 21/12 (2006.01)
Déposants : Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. [JP/JP]; 6-4, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048439 (JP) (Tous Sauf US).
MORI, Yasunari [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKIZAWA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MORI, Yasunari; (JP).
TAKIZAWA, Kazuki; (JP)
Mandataire : GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-091402 30.03.2007 JP
Titre (EN) PLASMA GENERATING APPARATUS AND PLASMA FILM FORMING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM DE PLASMA
(JA) プラズマ生成装置およびプラズマ成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)A plasma generating apparatus is provided with an impedance matching member, which is connected to a feed line that supplies an antenna element with a high frequency signal, and has variable characteristic parameters for impedance matching; a distribution wiring, which is arranged corresponding to the impedance matching member and connects the impedance matching member with at least two antenna elements; and a control section which changes at the same time impedance matching statuses of at least the two antenna elements connected to the impedance matching member through the distribution wiring by changing the characteristic parameters of theimpedance member. Thus, the number of impedance matching devices is smaller than that of the antenna elements, and a mechanism relating to impedance matching is made relatively small.
(FR)Un appareil de génération de plasma comporte un élément d'adaptation d'impédance, qui est connecté à une ligne d'alimentation qui fournit à un élément d'antenne un signal haute fréquence, et a des paramètres caractéristiques variables pour l'adaptation d'impédance ; un câblage de distribution, qui est disposé de façon correspondante à l'élément de d'adaptation d'impédance et connecte l'élément d'adaptation d'impédance avec au moins deux éléments d'antenne ; et une section de commande qui change au même moment les états d'adaptation d'impédance des au moins deux éléments d'antenne connectés à l'élément d'adaptation d'impédance à travers le câblage de distribution par le changement des paramètres caractéristiques de l'élément d'impédance. Ainsi, le nombre de dispositifs d'adaptation d'impédance est inférieur à celui des éléments d'antenne, et un mécanisme apparenté à l'adaptation d'impédance est rendu relativement petit.
(JA) プラズマ生成装置は、アンテナ素子へ高周波信号を給電する給電線と接続された、インピーダンス整合のための特性パラメータが可変なインピーダンス整合部材と、インピーダンス整合部材に対応して設けられ、インピーダンス整合部材と少なくとも2つ以上のアンテナ素子とを接続する分配配線と、インピーダンス整合部材の特性パラメータを変化させて、分配配線を介してインピーダンス整合部材と接続された少なくとも2つ以上のアンテナ素子のインピーダンス整合状態を同時に変化させる制御部と、を有する。これにより、アンテナ素子に比べてインピーダンス整合器の数が少なく、インピーダンス整合に係る機構が比較的コンパクトな装置となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)