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1. (WO2008123391) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DOPAGE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/123391    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/056002
Date de publication : 16.10.2008 Date de dépôt international : 21.03.2008
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka, 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
SASAKI, Yuichiro; (US Seulement).
OKUMURA, Tomohiro; (US Seulement).
ITO, Hiroyuki; (US Seulement).
NAKAMOTO, Keiichi; (US Seulement).
OKASHITA, Katsumi; (US Seulement).
MIZUNO, Bunji; (US Seulement)
Inventeurs : SASAKI, Yuichiro; .
OKUMURA, Tomohiro; .
ITO, Hiroyuki; .
NAKAMOTO, Keiichi; .
OKASHITA, Katsumi; .
MIZUNO, Bunji;
Mandataire : TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-077113 23.03.2007 JP
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA DOPING
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DOPAGE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)Gas supplied to gas flow passages of a top plate from a gas supply device by gas supply lines forms flow along a vertical direction along a central axis of a substrate, so that the gas blown from gas blow holes can be made to be uniform, and a sheet resistance distribution is rotationally symmetric around a substrate center.
(FR)Selon l'invention, un gaz distribué par des conduites d'alimentation en gaz dans des passages d'écoulement de gaz d'une plaque supérieure, en provenance d'un dispositif d'alimentation en gaz, forme un écoulement dans le sens vertical le long de l'axe central d'un substrat, de manière que le gaz soufflé depuis les trous de soufflage de gaz peut être rendu uniforme, et que la distribution de la résistance de couche est rotationnellement symétrique autour du centre du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)