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1. (WO2008123373) SILICE COLLOÏDALE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/123373    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055943
Date de publication : 16.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2008
CIB :
C01B 33/141 (2006.01), B24B 37/00 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : FUSO CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 3-10, Koraibashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410043 (JP) (Tous Sauf US).
HIGUCHI, Kazuaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIGUCHI, Kazuaki; (JP)
Mandataire : SAEGUSA, Eiji; Kitahama TNK Building 1-7-1, Doshomachi Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-082159 27.03.2007 JP
Titre (EN) COLLOIDAL SILICA, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) SILICE COLLOÏDALE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) コロイダルシリカ及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a silica particle which is dense and contains metal impurities in less quantities. Specifically disclosed is a colloidal silica produced by using an alkyl silicate as a raw material. When a sample is prepared by adding 1% by weight of polydimethylsilane (as an internal standard) to a dried product of the colloidal silica and solid-state 29Si-CP/MAS-NMR spectra are measured on the sample, a peak area ratio as calculated in accordance with the formula: (a peak area for the colloidal silica)/(a peak area for polydimethylsilane) is 15 or less. Also disclosed is a method for producing the colloidal silica.
(FR)L'invention porte sur une particule de silice qui est dense et qui contient des impuretés métalliques en petites quantités. De façon précise, l'invention porte sur une silice colloïdale obtenue à l'aide d'un silicate d'alkyle comme matière première. Lorsqu'un échantillon est préparé par addition de 1 % en poids de polydiméthylsilane (comme étalon interne) à un produit séché de la silice colloïdale et que des spectres de 29Si-CP/MAS-RMN à l'état solide sont mesurés sur l'échantillon, un rapport de surface de pic, tel que calculé selon la formule : (aire de pic pour la silice colloïdale)/(aire de pic pour le polydiméthylsilane) est de 15 ou moins. L'invention porte également sur un procédé de fabrication de la silice colloïdale.
(JA) 本発明は、金属不純物がより少なくかつ緻密なシリカ粒子を提供する。  本発明は、具体的には、ケイ酸アルキルを原料として得られるコロイダルシリカであって、前記コロイダルシリカの乾固物に対して内部標準としてポリジメチルシラン1重量%を添加した試料において、固体29Si-CP/MAS-NMRスペクトルを測定した場合におけるコロイダルシリカピーク面積/ポリジメチルシランピーク面積の計算式で求められるピーク面積値が15以下であることを特徴とするコロイダルシリカ及びその製造方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)